无氰碱性镀铜溶液EIS研究.pdfVIP

无氰碱性镀铜溶液的EIS研究 袁国伟1，于欣伟2 (广州市二轻研究所，广州市天河南二路22号704，邮编510160) [摘要]本文研究和测量了几种二价铜离子络合溶液的无氰镀铜和氰化镀铜电化学交流阻 抗谱。这些络舍物包括柠檬酸钠，葡萄糖酸钠，HEDP和乙二胺。利用计算机Zism软件分析了 Nyquist图，得到了电极的等效电路和电荷的转移电阻。讨论了络合溶液的浓度和pH对电化学交流 阻抗谱的影响。电化学交流阻抗谱表明，当乙二胺浓度为0．40M，plt=9．0时，电荷转移电阻较小，并 且Nyquist图和氰化镀铜溶液的相似。当乙二胺的浓度和pH过高时，电荷转移电阻增大。用HEDP， 葡萄糖酸钠和柠檬酸钠做络合荆时，溶液的电荷转移电阻也较大。氰化镀铜溶液中体系的电荷转移 电阻小．铜离子放电速度快，存在浓差极化，阴极表面被析出的氢气活化，这可能是氰化镀铜镀层结合 力好的原因之一。其他四种无氰镀铜溶液的电荷转移电阻较太，一般情况不存在浓差极化，电流效率 高。其电荷转移电阻由小到大排序如下： 乙二胺葡萄糖酸钠HEDP柠檬酸钠。 [关键词】 电化学阻抗谱；电镀铜；无氰；络舍剂。 ‘ 持、攘聪荫。拣¨ 0前言 也不够深入。测定在酸性镀铜体系中加入不同添 加剂时的EIS，得到了各种添加剂对沉积的不同影 以小振幅的正弦波电位(或电流)为扰动信 响”’。测定含添加剂的酸性镀铜体系的EIS。可以 号，使电极系统产生近似线性关系的响应，测量电 了解c1一对电沉积影响的机理～测定在酸性镀铜 极系统在很宽频率范围的阻抗谱，以此来研究电极 体系中加入Si3N4微粒的EIS，得到了微粒对复合 系统的方法就是交流阻抗法(AC impedance)，现在 电镀体系微分电容和极化电阻的影响”。用EIS 又称为电化学阻抗谱(ElectrochemicalImpedance 方法还被用于研究光诱导化学镀镍过程的反应机 Spectroscopy)‘。 交流阻抗法具有以下特点，由于使用小幅度对 理”。。EIS方法原则上可以用于多电极反应存在 ¨ooo圭Fo血端u口够潞口鎏fs) 称交流电(一般小于10毫伏)对电极进行极化，当的体系，因此对于某些合金电沉积过程机理的研究 频率足够高时，每半周期持续时间很短，不会引起 也可采用EIS方法，例如：通过对锌镍合金电沉积 严重的浓差极化及表面状态变化。在电极上交替 阴极反应EIS的解析，得到了具体的反应历程6。 进行着阴极过程与阳极过程，同样不会引起极化的 近年来，国内外都出现了一些可以取代氰化镀 积累性发展，避免了对体系产生过大的影响。其 铜的无氰碱性镀铜新工艺的报导“”。报导了新工 次，由于可以在很宽频率范围内测量得到阻抗谱， 艺的操作条件，镀液和镀层性能。但末见到这些电 因而EIS能比其他常规的电化学方法得到更多的 镀体系电化学阻抗谱的研究工作的报导。 电极过程动力学信息和电 1实验部分 极界面结构的信息。 ． 随着阻抗测量技术的发展，EIS在腐蚀科学， 1，1实验仪器 化学电源，电沉积等领域的研究应用日益广泛。 1．1．1电化学工作站：CHl600B型，由上海辰华仪 EIS在电沉积技术