彩色AC-PDP的制作材料和工艺.ppt

彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 * * 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 一、等离子体显示器概述 二、气体放电物理基础 三、彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍 四、彩色AC-PDP的制造材料和工艺 五、彩色AC-PDP电路系统 六、彩色PDP技术的新发展 七、直流等离子体显示器（DC-PDP) 八、PDP的应用及未来发展 提 纲 彩色AC-PDP主要部件 1. 玻璃基板 ? 技术要求: 表面平坦， 应变点温度高， 热膨胀系数与 电极材料和介质材料匹配。 ? 实用材料： （1）普通平板钠钙玻璃 优点：价格便宜，与已开发出的彩色 PDP所用的其它材料相匹配。 缺点：应变点低（一般为500℃左右） ，热稳定性差。 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 （一）彩色AC-PDP的主要部件及其制作材料 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 钠钙玻璃由于冷却速度不同造成热处理后的变形 钠钙玻璃在电极浆料烧结后的产生的弯曲 （2） PDP专用基板玻璃 优点：高应变点，如 PD200（应变点570℃）、CS25（应变点610℃），热稳定性好。 缺点：价格昂贵 （二）透明电极 ? 作用： 透明电极仅设置在AC-PDP的前基板上，减少对可见光的阻挡，并与同一基板上设置的汇流电极成对构成放电用的电极，即显示电极。 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 ? 技术要求: 可见光透过率高，电导率高，刻蚀性能优良。 ? 实用材料： 氧化铟锡（ITO）薄膜、SnO2薄膜。 ITO膜采用氧化铟与氧化锡比值大致为9：1的混合物靶通过溅射法制取．膜层具有优良的光透射率及导电性。PDP用ITO膜的表面电阻从20—30?／?(方块电阻）（膜厚1500A)到1000 ?／?(膜厚500A)。 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 ITO薄膜特点： ITO工艺成熟，刻蚀性能良好，但在PDP工艺中经过高温处理时，阻值变化较大。 SnO2薄膜特点： 成膜工艺简单，成本低，且热稳定性好，但其刻蚀性能不易掌握。 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 （三）汇流电极和寻址电极 汇流电极: ? 作用: 减小显示电极电阻 ? 要求: 导电性能好，与透明导电薄膜附着力强 ? 制作材料和方法: Cr-Cu-Cr薄膜 磁控溅射法制备薄膜，刻蚀成形 Ag浆料 丝网印刷图形，烧结制成 光敏Ag浆料 丝网印刷，光刻成形，烧结制成 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 寻址电极: ? 要求: 导电性能好，与基板玻璃附着力强。 ? 制作材料和方法: Ag浆料： 丝网印刷图形，烧结制成。 光敏Ag浆料： 丝网印刷，光刻成形，烧结制成。 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 （四）介质层 ? 作用: 把电极与放电等离子体分隔开，限制了放电电流的无限增长，保护了电极； 使 AC-PDP工作在存储模式, 有利于降低维持电压。 ? 材料: 介质浆料主要由玻璃粉、树脂粘结剂、溶剂等组成。 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 （五）介质保护膜 ? 作用: 延长显示器的寿命； 增加工作电压的稳定性； 降低器件的着火电压； 减小放电的时间延迟。 西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室 彩色AC-PDP的的制造材料和工艺 ? 技术要求: ①二次电子发射系数高； ②表面电阻率及体电阻率高： ?s1012Ω/□，?v1011Ω.m； ③耐离子轰击； ④击穿强度高：E(8-10)×106v/m； ⑤与介质层的膨胀系数相近； ⑥放电延迟小； ⑦易于制