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三、半导体中杂质能级 1、杂质的占位方式 实际半导体中总存在某些杂质(无意掺杂、有意掺杂),少量掺杂能对半导体物理和化学性质及器件质量有决定性影响。 根本原因在于:杂质存在使晶体中严格周期性排列原子产生的周期性势场受到破坏,可在禁带中引入能级。 以元素半导体Si为例分析杂质进入半导体中占位方式: 金刚石型晶体中晶胞内8个原子占晶胞体积34%,尚有64%间隙位置 替位式杂质:杂质原子取代晶格原子位于格点位置(原子大小及价电子壳层结构相近) 间隙式杂质:杂质原子位于晶格原子间的间隙位置(间隙原子半径比较小) 2、杂质能级 1)施主杂质、施主能级 Ⅲ、Ⅴ族元素在Si中是替位杂质。如:Si中掺杂Ⅴ族元素P 杂质电离: (杂质电离后形成晶格中不能移动正电中心 和晶格中自由电子) 杂质电离能:价电子脱离杂质原子束缚成为导电电子所需能量 施主能级: 2)受主杂质、受主能级 如,Si中掺杂Ⅲ族元素B为例 B替代Si后在Si晶体共价键中产生一个空穴,形成 受主杂质电离能: 受主能级: 3)浅杂质电离能的简单估算 利用类氢模型: 4)杂质的补偿作用 5)深能级杂质 6) 如:GaAs中杂质能级状况 * *
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