Spectral Efficiency of Extreme Ultraviolet Emission from CO2 Laser-Produced Tin Plasma Using a Grazing Incidence Flat-Field Spectrograph.pdfVIP

下载本文档

1
0
约1.16万字
约 4页
2017-08-19 发布于湖北
举报
版权申诉

Spectral Efficiency of Extreme Ultraviolet Emission from CO2 Laser-Produced Tin Plasma Using a Grazing Incidence Flat-Field Spectrograph.pdf

1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

Spectral Efficiency of Extreme Ultraviolet Emission from CO2 Laser-Produced Tin Plasma Using a Grazing Incidence Flat-Field Spectrograph.pdf

PlasmaScienceandTechnology，Vo1．15，No．5，May2013 SpectralEfficiencyofExtrem eUltravioletEm ission from CO2 Laser．ProducedTin Plasm aUsing aGrazingIncidence Flat-Field Spectrograph wuTao(吴涛)，一，WANGXinbing(王新兵)，WANGShaoyi(王少义) W uhanNationalLaboratoryforOptoelectronics，SchoolofOptoelectronicScienceand Engineering，HuazhongUniversityofScienceandTechnology，W uhan430074jChina SchoolofScience，W uhanInstituteofTechnology,W uhan430074，China A bstractAgrazingincidencefiat—fieldspectrographusingaconcavegratingwasconstructed tomeasureextremeultravioletfEUV)emissionfromaCO2laser—producedtinplasmathroughout thewavelengthregionof5nm to20nm forlithography．SpectralefficiencyoftheEUV emission around 13．5nm from plate，cavity,and thin foiltin targetswasstudied． By translatingthe ofcusinglensalongthelaseraxis，thedependenceofEUV spectraontheamountofdeofCUSWas investigated．Theresultsshowedthatthespectralefficiencywas higherofrthecavity targetin comparisontotheplateorofiltarget．whileitdecreasedwithan increaseinthedeofCHSdistance． Thesource’sspectraand theEUV emissionintensitynormalized totheincidentpulseenergyat 45。rfom thetargetnormalwerecharacterizedforthein-bandf2％ ofbandwidth1regionas a functionoflaserenergyspanningrfom 46mJto600mJforthepuretinplatetarget．Theenergy normalized EUV emission was found toincreasewith the increasing incidentpulseenergy． It reachedtheoptimum valueofrthelaserenergyofaround343mJ，afterwhichitdroppedrapidly． Keywords：laser—producedplasma，extremeultraviolet(EuV)emission，CO2laser，spec— tralefficiency．EUV lithography PACS：52．38．一r．33．20．Lg DOI：10．1088／1009—0630／15／5／08 1 Introducti