斜入射干涉检测大口径碳化硅平面反射镜.pdfVIP

第 19卷 第 7期 光学 精密工程 V01．19 No．7 2011年 7月 OpticsandPrecisionEngineering Ju1．2011 文章编号 1004—924X(2011)07—1437—07 斜入射干涉检测大 口径碳化硅平面反射镜 刘兆栋 ，陈 磊 ，韩志刚 ，严庆伟 ，朱日宏 (1．南京理工大学 电子工程与光电技术学院，江苏 南京210094； 2．南京中科天文仪器有限公司，江苏 南京210042) 摘要 ：采用 自行研制 的口径为 600mm的近红外相移平面干涉仪在斜入射条件下对大 口径碳化硅 (SiC)平面反射镜进行 了绝对测量。首先，在一个标准的斐索干涉测试结构中测出空腔波面数据；然后，将被测平面置于干涉光路中，使被测件 光轴与干涉仪光轴成 a角 ，测得第二组波面数据 。对两组波面数据处理后得到 SiC平面反射镜 中心垂线方 向的绝对面 形分布。最后，测量了630mm 口径 SiC反射镜多条垂线方向的绝对面形。结果显示，中心垂线处的绝对检验 PV值为 0．061k，RMS为 0．014k。实验结果表明，该测量装置可 以实现 比干涉仪有效 口径大 的光学平面垂线方 向的绝对面形检 测 ，尤其适用于镀有高反膜 的光学表面或者金属表面等面形的绝对测量 。 关 键 词 ：光学测量 ；斜入射 ；干涉仪 ；SiC平面反射镜 中图分类号 ：TH744．3：TB92 文献标 识码 ：A doi：10．3788／OPE1437 M easurementoflargeapertureSiC flatmirrors byobliqueincidenceinterferometry LIU Zhao—dong ，CHEN Lei，HAN Zhi—gang ，YAN Qing—wei，ZHU Ri—hong (1．SchoolofElectricalEngineeringandPhotoelectricTechnology， NanjingUniversityofScience Technology，Nanjing210094，China； 2．NanjingAstronomicalInstrumentsCorporation，Nanjing210042，China) *Correspondingauthor，E-mail：liuzhaodong6@hotmail．com Abstract：A self_developedlargeaperturenear—infraredphase—shiftingflatinterferometerwasusedto perform anabsolutetestforalargeapertureSiC flatm irrorinanobliqueincidencecondition．Firstly， thecavitywavefrontdatawereobtainedinastandardFizeauconfiguration，andthenthetestflatwas putintothecavityin itsnormalaxiswithanangleatotheopticalaxisoftheinterferometertoobtain thesecondwavefrontdataset．AfterprocessingthetWOdatasets，theabsoluteverticalprofileacross thecenterofSiC mirrorwasalsoobtained．Finally，severalabsoluteverticalprofilesofthe0630mm SiC m irrorweremeasured and theresultsindicatethatPV and RM S ofthecenterabsolutevertical profilesare0．061Xand0．014k，respectively