双面抛光运动的数学建模及轨迹优化.pdfVIP

第3 7 卷第3 期 光 学 技 术 Vol . 37 No . 3 　　　　　　　　　　　　　　　 　　　　　　　　　　　　　　　 2 0 1 1 年 5 月 O P TICAL T EC HN IQU E May 20 11 ( ) 　　文章编号 : 20 11 双面抛光运动的数学建模及轨迹优化 张彦 , 李军 , 朱永伟 , 高平 , 李标 , 蒋毕亮 , 左敦稳 (南京航空航天大学 机电学院 , 南京 2 100 16) 摘 　要 : 双面抛光运动过程复杂 ,对光学材料的加工有重要的影响 ,运动轨迹分布不但影响加工效率 ,而且影响加 工工件的表面质量 。通过分析双面抛光加工的运动过程 ,建立双面抛光中任意一点相对于上抛光盘的运动轨迹的数学 模型 ,改变数学模型中的轨迹运动参数 ,观察不同参数值对抛光轨迹分布的影响 ,优化分析得出抛光轨迹分布最佳的运 动参数值 。研究结果表明 ,工件在行星轮中的位置远离行星轮的回转中心 ,行星轮与整个抛光盘半径比为 0 . 3 ,抛光盘 与内齿轮的转速比在 3～8 倍之间 , 内外齿轮的转速比在 1～4 倍的范围内,获得的抛光轨迹最优 。 关 键 词 : 光学材料 ; 双面抛光 ; 数学建模 ; 轨迹优化 中图分类号 : T G74 　　　文献标识码 : A Mathematical model ing and trajectory optimization of doublesided pol ishing process ZHAN G Yan , L I J un , ZHU Yongw ei , GAO Ping , L I Biao , J IAN G Biliang , ZUO Dunw en (College of Mechanical and Elect rical Engineering , Nanj ing U niver sit y of Aeronautics and A st ronautics , Nanj ing 2 100 16 ,China) Abstract : The t raj ectory of doublesided poli shing i s very complicat ed and has an import ant influence on t he poli shing p rocess of t he op tical mat erial s. The t raj ectory affect s not only t he p rocessing efficiency , but al so t he surface qualit y . The movement of doublesided poli shing p rocess i s di scu ssed , and t he mat hematical mo del of t he t raj ectory i s est abli shed , which refer