材料科学与工程专业论文-李程鑫(完结版).docVIP

多层渐变结构TiMoAlON光热吸收膜的制备及性能表征 学 科：材料科学与工程 本 科 生：李程鑫 （签名） 指导老师：武涛 （签名） 摘 要 利用PEM控制的N2-O2双气氛反应溅射方法制备了具有四层渐变结构Ti/Mo-TiAlN/Mo-TiAlON/Al2O3)的太阳能选择性吸收薄膜，在450-550℃区间内不同温度对其进行8小时大气环境退火处理模拟了高温服役环境，通过对其在沉积态和退火处理后成分及组织性能的表征，实验研究了薄膜结构设计、退火工艺参数等对其吸收性能及非真空高温环境下服役稳定性的影响。 研究结果表明：利用本文提出的方法，可制备出预期四层渐变结构的TiMoAlON薄膜，其结构致密、表面平整，在550℃以下温度具有良好的热稳定性。其主要物相由非晶Al2O3及TiN、TiO、AlN和Mo结晶相组成，Mo呈层状弥散分布特征存在于吸收层中。与TiAlN/TiAlON双吸收层相比，其Mo-TiAlN/Mo-TiAlON双吸收层设计在300-900nm波段内具有更低的反射率，且在470 nm附近出现反射率约8.2%的吸收峰。 在沉积态下，完整结构TiMoAlON膜相对于Mo-TiAlN/Mo-TiAlON双吸收层样品在300-900 nm波段内吸收带明显宽化，但平均反射率上升至20%左右。在450-550℃区间对所制备的TiMoAlON薄膜进行8小时大气环境退火处理后，其方块电阻由5.7Ω升至400Ω以上，主吸收带内反射率降至10%以下，证实对溅射态薄膜进行大气环境退火处理可使减反层中过剩Al继续氧化，改善减反作用和抗氧化性能。退火温度升高对主吸收带覆盖频段影响较小，但导致反射峰、谷特征出现，同时反射率平均水平有一定变化，综合考虑应选取500℃为最佳退火温度。 500℃高温测定结果显示，所制备的TiMoAlON薄膜在5-20μm谱段热辐射率由室温接近于0的水平明显升高，其分布由56%递减到20%左右后稳定，平均值30%。说明其高温热辐射率表现升高趋势，但仍在可接受水平，500℃的工作环境下可获得吸收性能和热辐射性能的平衡。 以上结果表明：利用本文提出的工艺方法及结构设计，可制备出适用于中高温度非真空环境、具有较均衡的吸收性能及可靠的中高温大气环境下服役稳定性的TiMoAlON选择性吸收薄膜。  Preparation and Characterization of TiMoAlON Photothermal Absorber Films with Multi-layered Gradient Microstructure Specialty: Material Science and Engineering Undergaduate: ZH.X.Li (Signature) Supervisor：Wu Tao (Signature) Abstract PEM control N2-O2 dual atmosphere of reactive sputtering method to prepare a four-layer gradient structure (Ti/Mo-TiAlN/Mo-TiAlON/Al2O3) solar selective absorbing film in the range of 450-550℃ temperature onits eight hours annealing treatment of the atmospheric environment to simulate high-temperature service environment, through the characterization of its composition and microstructure properties of the deposited and annealed, experimental study of film structure design and annealing process parameters of their absorption properties and non-vacuum high-temperaturestability of the service environment. The results show that: the proposed method can be prepared by a