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数字集成电路实验.doc
第二次实验课 反相器(下)
2.3 分析如下电路
上面的电路用两种方式实现了反相器。左图只使用了NMOS,右图则使用了CMOS(NMOS和PMOS)。ΦF=-0.3V。试完成:
仿真得到两个电路的VTC图形。
解:两个电路VTC图形如图1所示.
图1 两个电路VTC特性图
计算两种电路的VOH,VOL及VM。可参考波形确定管子的工作状态。
解:首先计算位于左边的电路:
(1)当输入Vin 为低电平时,下面NMOS晶体管截止,上面NMOS晶体管导通,由于受阈值电压影响,VOH 不能达到VDD 。
故VOH =VDD-VTN =2.5-0.43=2.07V
(2)当输入Vin 为高电平时,下面NMOS晶体管导通,上面NMOS晶体管也导通,参考(1)的VTC曲线可知,此时M1是线性工作区,假设M2是速度饱和,则M2电流
M1电流
令得Vout =0.26V,
所以VOl=Vout =0.26V(参照(1)中VTC曲线,可知VOl 也在0.25V左右)。
(3) 计算VM 时,我们假设两个晶体管都处于速度饱和,且VM = Vin= Vout ,
,
令可得:VM =1.26V。
随后计算右边的电路
由于右边是标准CMOS电路,可以直接按公式求得,
于是 VOH =VDD=2.5V, VOl =0V,
其中
于是=1.038V(由(1)的传输特性曲线得到=1.12V.)
哪一种结构的反相器的功能性更好,为什么?(噪声容限,再生性,过渡区增益)
解:
(1)首先求左边的电路
在阈值电压附近:=-1.43
=1.26V,
故 V,
=0.39V ,
于是
(2) 然后求右边的电路
很容易求得, ,
故:
,
。
通过比较可以看出:
右边的电路功能更好,具体表现为具有更高的噪声容限,很高的过渡区增益,以及较好的再生性。
在对电路进行仿真的时候,从图形也可以定性的看出右边电路具有更好的性能,因为曲线过渡区斜率很大,很高的噪声容限,等等。
2.4 分析下面的buffer电路
单位反相器的输入电容为10fF,为了驱动一个20pF的电容,在单位反相器(尺寸系数为1)后面新加了两级反相器如上图所示。单位反相器的本征延迟是70ps。如果输入栅电容和反相器尺寸成正比,试确定所加入反相器的尺寸(给出尺寸系数),要求使传播延迟最小。并计算出该最小延迟。
解:
设单位反相器的尺寸为1,三级的反相器,放大倍数为2000倍,故,所以第二级尺寸系数为,第三级尺寸系数为。设单位反相器的尺寸比为3:1,
此时,最小延迟
由实验结果得:tdelay= 1.3502E-09s (尺寸不同,计算结果与仿真结果差别较大,但定性分析正确)。
如果可以自由选择反相器链的级数来减小延迟,那么你会选择插入几级反相器?这个时候的传播延迟是多少?
解:
在忽略自载情况下,可以得到反相器最优级数,由于反相器链级数只能取奇数,我们分别对N=7和N=9进行计算。
当N=7时,
当N=9时,
因此我们应该选择7级,此时传播延时最小为1.94ns。
比较1和2两种方法改善延迟性能的优缺点。
解:上述结果表明第二种方法的延时较小,方法一通过改变反相器的尺寸,来减小延迟;方法二通过选择最佳级数来减小延迟,但是这是以牺牲面积为代价的。
图2 不同级数反相器的延迟
附录部分:(1)两个电路VTC传输特性曲线代码:
.title NMOS
.options probe
.protect
.libD: \cmos25_level49.lib TT
.unprotect
Mnmos1 out in 0 0 NMOS w=0.75u l=0.25u
MNMOS2 vdd vdd out 0 NMOS w=0.375u l=0.25u
Vvdd vdd 0 2.5v
Vin in 0 PULSE(0 2.5v 20ns 4ns 4ns 20ns 100ns )
.dc Vin 0 2.5 0.1
.probe v(in) v(out)
.end
.title CMOS
.options probe
.protect
.libD: \cmos25_level49.lib TT
.unprotect
MNMOS out in 0 0 NMOS w=0.375u l=0.25u
MPMOS out in vdd vdd PMOS w=0.75u l=0.25u
Vvdd vdd 0 2.5v
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