VHF/UHF晶体滤波器的进展.pdfVIP

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VHF/UHF晶体滤波器的进展.pdf

6卜 i 维普资讯 992年第 3期 ▲ -■ 宇航计测技术 总第 63期 VHF /UHF晶体滤波器的进展 吴 惠 军 17l (航空航天部 二院二0=所) 文 摘 简要评述_r近几年来VHF/UHF晶体滤波器的进展,讨论了VHF/UHF谐 振器的特点 V!{F/t-Hr晶俸滤波器的性能, 及SAW晶体滤波器和谐振器性能的比较。 主题词 墨垒婆选星, , ,堕量墅没计 一 、 引 言 随着通迅技术的发展,可用的射频频段越来越挤,因此通迅频段势必向更高的方向发 展 例如在分格式无线电台 通迅中继移动电台 边带电台 数字电话增音机 超小型呼 叫接收机,以及导航 ,高速逻辑系统,都需要使用 vH /UHF晶体滤波器,来满足上 述要求。如果用早先的倍频方块,势必增加电路的复杂性 体积 重量和功率耗散等。如 将谐振器的基频提高,则可改善上述缺点,同时,减少 j,由倍频引起的噪声。由于每增加 一 次倩频,相位噪声要增加 6dB,因此基频的提高,改善了整机的性能。 80年 以前,田丁滤波晶体工艺的限制,通常基频只能做到 30MHz,经改进的研磨机 可加工到 50MHz 当时要设计 VHF晶体滤波器,必须利用三次或五次泛音晶体,这时 频率可以达到 200MHz 但是随着泛音次数 n的提高,滤波晶体的带宽M(apcI/ )明 显地减小。在设计滤波器时,就必须加展宽线圈,这样不但增大了滤波器的体积,同时降 低 了滤波器的性能 70年代 中后期,石英晶体元件在工艺 有了突破,用离子刻蚀法, 谐振器的基频可达 500MHz,之后不久采用化学腐蚀法,基频可达 200MHz,到 1985年 左右,利用这两种方法都可将谐振器加工到基频为 1000MHz左右或更高 … ”。 ● 随着谐振器基频的扩展, 目前晶体滤波器 (基频)可 以做到 200MHz左右 (基频), 譬 三次泛音可 以做到 670MHz,LiTaO3宽带滤波器可达 240MHz )。尽管已制成低次泛 音的UHF晶体滤波器,但泛音晶体的阻抗比基频大好兀倍,因此滤波器的输入阻抗就要 增大,这样就要增加阻抗匹配网锚,、滤波器的体积和重量随之就会增大 虽然谐振器的基 频可以撇得很高,但在满足滤波器的实用上,能成批生产成本低,性能较好的这类滤波器 还处于 vHF的下 艇区; ‘ - ’ ’ . 二、VHF,UHF谐振器的特点 提高石英晶体元件基频频率 的方法,.有离子刻蚀、化学腐蚀、等离子刻蚀等方法,目 前丰要采用前两种方法 一 69 维普资讯 1.离子刻蚀法的优点 对刻蚀晶体片 (AT、BT和 SC)的表面一致性好;对某一种切型来说,刻蚀率 的重 复性好;对石英和铌酸锂的刻蚀质量基本一致 (刻蚀率略有差异】;刻蚀面积足以制造一 对耦台谐振器;在镀膜电极区域内,刻蚀晶体片的平行度和平面度 良好;泛音晶体的Q, 值高;采用反应式离子刻蚀技术,刻蚀效率可提高 5倍,其表面质量与一般的离子刻蚀相 同。但是,尽管一次可以刻蚀几十块片子,由于总的刻蚀效率还很低,因此成本较高。 2.化学腐蚀法的特点 J”【

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