立方织构Cu-Ni基带和缓冲层的研究.pdfVIP

立方织构Cu-Ni基带及缓冲层的研究‘ 史锴Ⅵ，扬坚1，刘慧舟’，匈Le-勇一，舒勇华z，袁冠森 (1．北京有色金属研究总院超导中心，北京100088： 2．清华大学应用超导研究中心，北京to0034) 摘赛tNi是制备RABiTS基带的常用材料．然而 为是接近将来太舰摸工业化生产的一身}捷径。同时， 当Ni表面沉积YBCO厚鹱以后，由干Ni具有桡磁 这一方法在简化援冲层的结构方面也较其它方法为 性，在交流传撕和电工应用中，畚增加磁滞拯耗． 简洁。本实验过程中．采用了SOE方法在Cu-Ni音 与Nj相比，Cu-Ni合空善于无磁性的材料．因此提 金双轴织构基带表面外延了一层NiO(200)的缓冲 出了无磁性虹构基带的课题．乐统地研究了它们的 层·研究了各种不同的条件．包括气氛，气压，沮 虹构形成厦转变规律，并最蝽重复地制备了吴有稳 度在内的参数对于Ni