磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率及抛光区形貌的影响.pdfVIP

中国机械工程第 19卷第 21期 2008年 11月上半月 磨料射流抛光中各工艺参数对材料去除率 及抛光区形貌的影响 李兆泽 李圣怡 戴一帆 彭小强 国防科学技术大学，长沙，410073 摘要：介绍了磨料射流抛光的工作原理，并从试验出发，针对射流抛光技术的主要工艺参数(入射角 度、射流速度 、入射距离、抛光液浓度和工作时间等)对抛光特性的影响进行了试验研究。分析 了各工艺 参数与抛光效率和抛光点形貌的影响关系，从而获得 了最佳3-艺参数。在此基础上，对一平面K9光学 玻璃进行 了抛光试验 ，抛光速率约为 3Onot／rain，抛光区粗糙度小于 2．5nm。研 究结果为磨料射流抛光 加工的进一步研究提供 了一定的帮助 。 关键词 ：磨料射流；抛光；去除率；表面粗糙度 中图分类号 ：TH161 文章编号：1004 132X(2008)21—2532一O4 EffectsofVariousParametersonMaterialRemovalRateandthe FootprintinAbrasiveJetPolishingProcess LiZhaoze LiShengyi DaiYifan PengXiaoqiang Nationa1UniversityofDefenseTechnology，Changsha，410073 Abstract：Thispaperfirstlyintroducedtheprinciplesofabrasivejetpolishing．Thensomekeyin fluenceparametersofjetpolishingtechnology，suchasincidenceangle，jetspeed，incidencedistance， abrasiveconcentrationandprocessingtimewereinvestigatedbasedonexperiments．Therelationships amongvariousparametersandpolishingefficiencyandthefootprintinpolishingregionwereanalyzed． Optimizedrelationcurveofeveryparameterwasobtained．Basedonthese，aplaneK9opticalsample waspolished．Thepolishingrateisabout30nm／min，andtheroughnessofthispolishingregionisless than2．5nm．Theresultslayanexperimentalfoundationforthefurtherresearchofabrasivejetpolis— hing． Keywords：abrasivejet；polishing；removalrate；surfaceroughness 0 引言 本文通过试验 ，研究 了磨料射流抛光技术 中 随着现代科技的迅猛发展，高陡度非球面、大 各工艺参数对材料去除率及抛光 区形貌的影响， 长径 比内腔以及小尺寸非球面等光学零件的应用 并经过优化，得到了适合于磨料射流抛光 的工艺 越来越广泛 ，传统 的抛光技术很难满足这些复杂 参数，为射流抛光加工的进一步研究提供 了一定 型面的加工要求_1。。。近年来涌现出了一批先进 的帮助。 的非球面加工技术 ，其中磨料射流抛光技术就是 1 抛光装置及机理的研 究 其中之一。与传统的抛光技术相 比，磨料射流抛 光技术的优点主要如下 ：由于其抛光头是一段 磨料射流抛光装置示意图如图 1所示。混合 细长的液体射流束 ，因此加工过程 中抛光面质量