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场致发射三极管电子注聚焦的计算机模拟.pdf
场致发射三极管电子注聚焦的计算机模拟
李莉 李炳炎
山东大学 信息科学与工程学院,山东 济南 250100
李兴辉 廖复疆
北京真空电子技术研究所,北京 100016
Simulation of the Electron Beam Focusing in the Field
Emission Triode
LiLi,Li Bingyan
(School of Information Sci.Eng., Shandong Univ.,Jinan 250100)
Li Xinghui,Liao Fujiang
(Beijng Vacuum Electronics Research Institute ,Beijing 100016,China)
ABSTRACT: Finit-difference method is used for the simulation of the field emission triode in
this paper. In order to keep the electron beam focusing in the field emission triode, two gate
electrodes or three gate electrodes are suggested. The diameter, height and voltage of the gate
electrode are changed to analyze the influence on the electric field and the electron trajectory in
the triode.
KEY WORDS: Field emission triode; Electron trajectory; Focus
摘 要: 本文以场致发射原理为基础,对场致发射三极管电子注的聚焦问题进行了计算机的
模拟。分别讨论了双栅聚焦、三栅聚焦情况。结合等位线及电子轨迹分析了聚焦栅极的高度、
开口半径、电位等诸多因素对于电场分布以及电子注聚焦的影响。
关键词: 场致发射三极管;电子轨迹;聚焦
1 引言
将场致发射阵列 (FEA) 阴极直接应用于行波管等线性束微波电子器件中,可减小器件
的尺寸和重量,提高其寿命与可靠性,在雷达、电子战、卫星通信、移动通信等领域有广泛
的应用前景。
电子注的控制和聚焦是电子器件一个很重要的问题。在电子枪应用中,场致发射电子注
发散的一个重要原因是其发射角大于热电子的发射角; FEA 阴极发射表面制作成平面状,
而不是凹球面;另外,空间电荷力使电子注有自然发散的趋势,即存在空间电荷效应的影响。
因此需要比一般热阴极聚焦大 2~4倍的聚焦磁场[1]。在 FEA电子枪中,传统的 Pierce型热
阴极电子枪的结构需要作相应的修改,才能应用于场发射电子注的情况。选择多电极结构进
行场致发射电子注的聚焦。
本文目的是研究场致发射三极管区的物理状态,特别是栅极电压和形状对电子注聚焦的
影响;模拟聚焦电极对电子注聚焦的作用,使场致发射阵列阴极发射的电子可以聚焦成电子
注,以有利于形成大电流密度的电子枪。
2 物理模型
垂直双栅聚焦为目前可采用的一种电子注聚焦方法。如图 1(a)所示,在每个尖锥发射体
单元上方增加一聚焦栅极,构成一个静电聚焦微透镜,调节聚焦栅极的电压,使每个微电子
束保持平行,这样可获得整个电子注的聚焦。
375
图 1(b)器件的基准参数为:锥尖的曲率半径 R3 为 0.025um; R2 为 2.0 um;阳极半径
R1 为 2.5 um;栅极上边界与阳极间距离为 5.0 um;栅极下边界与衬底间距离 H2 为 1.1 um;
栅极厚度 H4 为 0.3 um;
(a) 同轴双栅聚焦 (b)单个阴极的计算模型
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