溅射偏压对柔性衬底ITO薄膜结构和光电特性的影响.pdfVIP

第7 期 电 子 元 件 与 材 料 Vol.22 No.7 2003 年7 月 ELECTRONIC COMPONENTS MATERIALS Jul . 2003 研究与试制 R D 溅射偏压对柔性衬底ITO 薄膜结构和光电特性的影响 1 1 2 杨田林 ，高绪团 ，韩圣浩 （1.山东理工大学物理系，山东 淄博 255049；2山东大学物理与微电子学院，山东 济南 250100） 摘要:用磁控溅射工艺，在柔性衬底上，在不同直流偏压条件下，制备了ITO （氧化铟锡）透明导电膜。最佳直流负