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第十五章 集成电路布图设计的保护 本章知识点：集中电路、集成电路布图设计专有权、集成电路布图设计的基本特征、集成电路布图设计的法律保护。 本章重点难点：集成电路布图设计权、集成电路布图设计保护模式、集成电路布图设计专有权的取得、集成电路布图设计专有权的限制等。 本章学习目标：通过本章的学习，能够对集成电路布图设计权的相关背景知识有所了解，掌握集成电路布图设计专有权的具体内容以及法律保护模式，并对集成电路布图设计专有权的限制进行掌握。 学习建议：鉴于本章涉及到工科的知识，学习时可以加强对背景知识的阅读。同时，应该着重掌握有关集成电路布图设计专有权的具体特征。 第一节 集成电路和集成电路布图设计 1：集成电路（Integrated?Circuits） 1952年，英国雷达研究所的一位科学家G·W·A·Dummer提出了集成化的设想：按照电子线路的要求，将一个线路中所包含的晶体管和二极管以及其他必要的元件集合在一块半导体晶片上，从而构成一块具有预定功能的电路。1958年，美国德克萨斯仪器公司的基尔按照这一设想，使用一根半导体硅单晶制成了一个相移振荡器，它包含的四个晶体管等元器件已不再需要用金属导线相互连接了――集成电路从此产生了。 a:集成电路的定义 对于集成电路的定义，各国立法不尽相同，其解释也多种多样。按照我国于2001年3月28日通过的《集成电路布图设计保护条例》规定，集成电路是指半导体电路，即以半导体材料为基片，将至少包含一个有源元件的多个元件，和部分或全部元件的互联线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子职能的中间产品或者最终产品。集成电路一般分为混合集成电路和半导体集成电路。其中,半导体集成电路无论在用途、功能、产量、市场份额等方面都绝对占有统治地位,以至于人们常常以半导体集成电路作为电子工业发展水平的里程碑或者标志，实行集成电路立法的国家，也多针对半导体集成电路进行立法。 b:集成电路的制作过程一般要经过以下几个步骤： （1）确定所设计的集成电路的功能和规格，进行系统设计； （2）设计实现这些功能的逻辑图； （3）进行电路设计；（4）芯片三维布图设计，即将电路图中多个元器件合理分配在多个叠层中，并使其互联，画出每层电路布图设计图并进行验证； （5）制作用于生产芯片的掩模板； （6）利用掩模板将布图设计逐层制作于半导体片上，成为芯片； （7）芯片检测； （8）封装后为实用的集成电路。 2：集成电路布图设计 所谓布图设计，是集成电路布图设计的简称，各国对之称谓却不尽相同。世界上最早立法保护集成电路的三个国家中就分别采用了三种不同的叫法：美国人称其为掩模作品（Mask work）；日本人则使用了线路布局（Circuit Layout）的提法；瑞典人使用的是布图设计（Layout Design）。但这并不算结束，随后跟进的欧共体指令却又使用了形貌结构（Topography，也有译作拓朴图或者构型的）。在这多个术语中，中国与WIPO的《集成电路条约》保持一致，采用了布图设计﹙Layout Design﹚的称谓。 具体来说，布图设计是指一种体现了集成电路中各种电子元件(包括有源元件和无源元件)的三维配置方式的图形。这种“配置方式”本身是可以以一种信息状态存在于世的,不像其他有体物占据一定空间。但当它附着在一定的载体上就可为人所感知。布图设计在集成电路芯片中表现为一定的图形。 集成电路芯片的设计一般分为两个步骤。第一步骤称为逻辑设计，它是根据该集成电路芯片所要执行的功能，利用导线将一些基本逻辑组件连接在一起，最后列出所有逻辑组件的连接网表。第二步骤称为布图设计，它是根据第一个逻辑设计所提供的网表，根据所选择的电路，根据具体的工艺条件，对芯片里所有的逻辑组件及其之间的连线进行几何配置和布图。 3：集成电路布图设计的基本特性 无形性 布图设计的创造过程是一个复杂的智力活动，布图设计可以固定在磁盘、磁带、掩膜上，也可以固定在集成电路产品中。但这些介质与掩膜仅仅是布图设计的载体，是智力活动成果的表现形式，是物化了的智力成果，而布图设计本身是无形的，这与著作权法上的作品有类似之处。如果不区分布图设计和按布图设计制造出来的集成电路产品，必然会引起认识上的混乱，因为基本范畴的混淆容易导致对法律制度的误解。 可复制性 布图设计具有可复制性，但其可复制性与一般著作权客体的可复制性不同。当布图设计的载体为掩膜版时，它以图形方式存在，这时只要对全套掩膜版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁盘为载体时，同样可用通常的拷贝方法复制。当布图设计的载体为集成电路芯片时，它同样可以被复制，只是复制过程相对要复杂一些。 表现形式的非任意性 布图设计是与集成电路的功能相对应的，其以图形的方式存在于集成电路芯片中或