连续非球面微透镜阵列的制作的研究.pdfVIP

2003年10月 第十二届全国电子束、离子束、光子束学术会 北京 连续非球面微透镜阵列的制作研究 张晓玉姚汉民杜春冒潘丽邱传凯 (中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室，成都610209) 摘要：实验研究了AZ9260正性光刻胶制作深浮雕连续非球面(双曲线)微透镜阵列的光刻工艺， 工艺参数。提出了采用低温长时间前烘和连续升温后烘方法实现面型控制。并采用扫描电子显微 镜(SEM)和表面轮廓测试仪测试了所制微透镜的表面微结构形貌。 关键词：AZ9260光刻胶：深浮雕连续非球面微透镜阵列；面型控制 1引言 具有大数值孔径、大浮雕深度、高填充因子、高衍射效率等特点的深浮雕连续非球面微透镜 阵列在现代国防科学技术和工业领域中具有重要的应用价值和广阔的应用前景。而深浮雕微透镜 阵列的应用必须解决元件研制的关键技术问题：浮雕深度和面型控制。这两大主要难点的解决很 大程度上取决于光刻材料的选择和光刻工艺的优化。 选择吸收系数小的光刻材料是制作深浮雕微透镜的关键因素之一，其次还要考虑光刻材料的 吸收波段、分辨率、塑流效应等因素。而目前市场上的商品化光刻胶是应用于集成电路光刻工艺 而生产，没有针对微光学元件研制的特