微区微纳米压印技术及设备.pdfVIP

第 卷 第 期 光学 精密工程 １７ ４ 　 Ｖｏｌ．１７ Ｎｏ．４ 　 　 　　 　　　　　　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　 　　　 　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２００９ ４ Ａ ｒ．２００９ 　 　 　 ｐ 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２００９０４０８０７０６ 　 微区微纳米压印技术及设备 申 溯，周 雷，魏国军，陈林森 　 　 （苏州大学 信息光学工程研究所，江苏 苏州 ２１５００６） 摘要：为了实现在大幅面基底上制作微纳结构，开发了一种新型的分布微区微纳米压印技术和相应的设备。介绍了分布 微区微纳米压印的技术设想，并以提高压印稳定性和设计可旋转压印头为目标，设计了气动驱动装置和压印头结构。然 后，通过实验检测了平台运动精度，并在碳酸聚酯材料上热压印了周期为 ４００ｎｍ的光栅。最后，以背光模组用光扩散片 为应用实例，介绍了分布微区微纳米压印技术与设备的可能应用领域。实验结果表明，在 １ｍ的行程范围上，平台位移 精度可达 １００ｎｍ，压印头旋转角度为－９０° ９０°，压印深度可由加热温度和驱动力大小控制。制作的扩散片厚度为 １２５ ～ μｍ，扩散半径为 ５ｍｍ。微区微纳米压印技术和设备特别适合大幅面光学衍射图像和平板显示器件的微结构制作。 关 键 词：微纳米压印；微结构；热压印；控制 　 　 中图分类号： 文献标识码： ＴＮ３０５．７ Ａ 　　 ／ 犇犲狊犻狀狅犳犱犻狊狋狉犻犫狌狋犲犱犿犻犮狉狅犪狉犲犪犿犻犮狉狅狀犪狀狅犻犿狉犻狀狋犻狀 犾犻狋犺狅狉犪犺犻犮狊狊狋犲犿 犵 狆 犵 犵狆 狔 ， ， ， ＳＨＥＮＳｕ ＺＨＯＵＬｅｉＷＥＩＧｕｏｕｎ ＣＨＥＮＬｉｎｓｅｎ ｊ （ ， ， ， ） 犐狀狊狋犻狋狌狋犲狅 犐狀狅狉犿犪狋犻狅狀犗 狋犻犮犪犾犈狀犻狀犲犲狉犻狀 犛狅狅犮犺狅狑犝狀犻狏犲狉狊犻狋 犛狌狕犺狅狌２１５００６ 犆犺犻狀犪 犳 犳 狆 犵 犵 狔 ： ／ ， ／ 犃犫狊狋狉犪犮狋Ｔｏｆａｂｒｉｃａｔｅｍｉｃｒｏｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓｏｎａｌａｒｅｆｏｒｍａｔｓｕｂｓｔｒａｔｅ ａｎｏｖｅｌｍｉｒｏａｒｅａｍｉｃｒｏ ｇ