DFB-LD的光栅干法刻蚀的研究.pdfVIP

16．DFB—LD的光棚干法刻蚀研究 罗飚1 沈坤2 阳洪涛2谈春雷2 (1．武汉邮电科学研究院2．武汉电信器件公司湖北武汉430074) 摘要：在光栅的制作中有两种方法：一个是湿法，另一个是干法。由于DFB激光器的光 栅用湿法腐蚀的方法有很多缺点，我们就采用了干法腐蚀在InP和InGaAsP上做实验。本文 介绍一种新的方法，SiN作掩蔽模用全息光刻，反应离子刻蚀的方法作光栅，经过摸索，做出了 比较好的一级光栅。 关键词：分布式布拉格反馈 干法腐蚀 反应离子刻蚀全息光刻 一、引言 随着光纤通信向高速率、长距离方向发 展，光波群速度的色散影响必须考虑，模分配 式中，△艮(z，Y，z)]为光栅对介质常数的调 噪声也是一个严重问题，因而对光源要求越 制；△可理解为调制深度。对同样的△，对矩 来越高，要求器件在高速动态调制下能单模 形光栅K有最大值，且反比于光栅的级次 工作，能够满足上述要求的器件，DFB激光 (1／m)。[3] 器是最佳选择。 三、实验方案