相移滤波提高超微细图形成像光刻分辨力的研究.pdfVIP

2001年10月 第十一届全国电子束·离子束·光子束学术年会 四川．成都 相移滤波提高超微细图 形成像光刻分辨力研究8 陈旭南，康西巧，罗先刚，石建平，姚汉民，李展 (中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室，成都610209) 摘要：为进一步提高大数值孔径投影成像系统的光刻分辨力和焦深，同时针对振幅型滤波光 能量利用率低的缺点，详细研究了相移滤波高分辨力大焦深的基本理论，给出相移滤波数理 模型，进行模拟计算分析，根据不同的掩模图形设计制作不同的最优相移滤波嚣，并自行设 计制作搭建可更换滤波器的投影光刻系统，进行投影光刻对比实验．理论分析和实验结果表 明，相移滤波能显著提高大数值孔径投影成像光刻分辨力和焦深，同时提高光能利用率，有 利于提高光刻生产效率，是一种比较有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术． 关键词：相移滤波；投影成像光刻系统：分辨力和焦深；光能利用率 1弓l言 在投影成像光刻系统中，为进一步提高大数值孔径成像系统的光刻分辨力和增加焦深，出现了提 高分辨力的相移掩模、离轴照明、以及