应用保护膜技术对光通维持率提高地研究.pdfVIP

应用保护膜技术对光遥维持率提高的研究 应用保轳膜擅朱对光通谁掳卑握高的研究 总参63研究所丁正华 唐建华 江苏百倍集团 赵军 杨家伟 。 长，苎堡苎苎兰竺仃!!燃点20001、!妻!穆到荧光粉通道培阻断，形成不了钠汞齐，可 I。R，,薏耋苎苎竺要篓王。，!登苎竺竺竺兰提高哥见光输出：”…。。 竺：，竺!，兰!竺!鉴兰竺兰苎竺苎!_苎③。矗；二二；孑-管早晚期黄黑产生，使光通 兰竺=羔，!!竺警曼堂有关研究试验磊毒；主；：≥夏；≥≤i，高巍妄羹荔妄灯 情况三兰竺璺竺黧曼。 薹：磊磊蒿磊夏赢善菇丢蒿蒜桑 2．保护■应用于荧光灯的作用 …。…………………一一j一：” ’2000江苏电光源学术年会论文集 又生成确如．C就沉积于荧光耪，．Ⅳ与磁化 AhCh半透明保护膜．另一种是采用氧化钇、氧 台为黄棕色HeN3和HgN2也沉积于荧光糟化铈、氧化钍透明保护膜。因取材方便，我们主 上，从而污染黑化荧光粉，它们都使光输出不 要采用第一种保护膜。对此种保护膜进行了多 断降低。采用保护膜，特别将保护膜与荧光粉 种涂复工艺试验，并对其与光电参敦及光通维 配成悬浊液涂复．0．1ure的徽细保护膜材料 持率之闻的相关散据进了统计和记编。 如(AkQ)将每个荧光粉(约5um)的颗粒包3．保护膜试验与应用 裹起来，形成包膜保护层，使荧光粉中杂质戚 我们分别进行了醋酸丁酿涂粉与涂保护 分不与汞作用，也不使灯管空间．中杂质气体 膜后再醋酸丁醑涂粉；醋酸丁馥涂粉与水涂 侵害荧光糟晶格，保持一定发光输出和光通 粉；水涂粉与台荧光粉保护膜悬浊液的麓酸 量，这也是为什么涂复保护膜与荧光粉悬浊 丁醇涂粉；高低色沮荧光粉水涂粉；涂佩护膜 液灯管较豫一层保护膜再涂荧光粉的灯管黄 后再涂承涂粉与水浍粉等五组涂与不涂或不 黑更少，光囊更低舶原因。 同方式涂复保护膜工艺对比试验。 2．2保护奠种类 3．1醮酸丁醴涂粉与涂保护虞后再薯酸丁 目前常用保护膜有两种，一种是采用r— 醇涂粉光电参数比较 1lW—U(L=202nan)6900K荧光粉同一车捧气 编 点灯 色温 光通量 显色 瞥电 臂电 管功 光 囊 备 注 号 时闻h K U忧 指数Ra压V流mA率W ％ 0 71。70 829．4 79．3 94．415011．4 保 1006855798．5 79 94．1 15111．S 3．7 1．灯譬燃点 5∞ 6560714．8 78．5 90．515011．4 4．1 100h陆续产生 (1)l咖6405672．7 78．1 90．315111．3 15．5 爿瑚 6200632．4 78 蚰．5 15111．320．75(阴极处)轻擞黄 0 7095昭2．3 79．695．1 15011．6 保 l∞ 6855790．3 79 94．515111．5 5．2 黑。 5∞ 6640714．9 78．9 91．115111．3 9．6 2．灯营燃点 (2)1饿妁 64∞ 676．2 78．2 92 15111．3 14．4 ● 2呦泌 642．2 78．1 91 151 2∞0h，糟层较自