CVD金刚石薄膜生长过程中的原位光发射谱的研究.pdfVIP

一 一 堑丛鱼丝塑坌煎 !望 CVD金刚石薄膜生长过程中的原位光发射谱研究 廖源常超方容川 陈义良 (中国科学技术大学热．台肥230025) 摘要 利用幂位光发射谱技术对热丝化学气橱沉积(cvB)金刚石薄膜的生 长过程进行了研究。实验表明甲烷浓度对气相基团(如cH，c}I+和H 等)浓度影响很大，但对电子平均温度影响较小。]而反应压力和灯丝 温度对光发射谱的影响研究显示它们对光发射谱的作用不大。空间分 辨的原位光发射谱显示在衬底附近存在着相对浓度较高的原子H， 这 非常有利于金刚石薄膜的生长。虽然化学气相中相对较高的cH和c}I． 有利于金刚石在光滑的硅衬底上成核，但却损害了金刚石薄膜的生 长。 关键词 化学气相沉积 金刚石薄膜 原位光发射谱 金刚石薄膜是一种集优异的力学、热学、光学和电子学于一体的特种功能薄膜材 料，具有广阔的应用的前景，因而引起人们的极大兴趣