论切水剂在硅片清洗中应用.pdfVIP

晶体硅太阳电池及材料．237． 论切水剂在硅片清洗中应用 韩红江 陈月琴张华 (硅片制造部，常州天合光能有限公司；江苏省常州市邮编：213031联系电话0519 传真：0519子信箱：guopei．sun@trinasolar．com) 摘 要 研究切水剂的切水、脱水特性，将切水剂运用到硅片清洗工序中，以达到优化清洗工艺、简化清洗设备、缩 短硅片清洗时间的目的。结果表明，使用切水剂可以达到预期效果，而且对提高硅片清洁度有好处。 关键词 切水剂；脱水；清洗 1．引 言 PV行业中【1】硅片清洗是指电池制绒前，采用物理或化学的方法去除硅片表面的污染物和自身氧化物，以 得到符合清洁度要求的硅片过程。 清洗硅片对PV行业电池制造工序的重要性越来越被人们重视，这是由于表面的污染物会直接影响到制绒 质量、效率、成品率、以及转化效率。随着PV行业的飞速发展，硅片越来越薄，数量越来越大，为提高清洗 效率，提高产品质量，降低成本，很多PV企业都在改进清洗工艺。 硅片表面的污染物通常以原子、离子、分子、粒子、或膜的形式以化学或物理吸附的方式存在于硅片的表 面或硅片的自身氧化膜中。清洗硅片要求既能去除各类杂质又不能损坏硅片。清洗分为物理清洗和化学清洗， 化学清洗又包括水溶性清洗和气相清洗等。水溶性清洗由于价廉而安全，对杂质和基体选择性好，可将杂质清 洗至非常低的水平等诸多优势，在清洗技术中一直占主导地位【2儿31。 PV行业是新兴行业，对硅片清洁度要求没有半导体行业要求高，由于大规模生产需要，不可能象半导体 行业那样采用RCA清洗技术，因此目前国内PV行业基本都是采用水溶性清洗液清洗硅片，干燥方式有离心 干燥、去离子热水慢拉加热风干燥、IPA脱水加IPA慢拉蒸干。根据干燥方式不同采用手动清洗线和自动线 清洗。 1．1自动线(IPA干燥) 随着大规模生产的到来，自动清洗线取代手动线已成为必然，各公司根据各自情况订制不同的自动线清洗 硅片，目前有两种干燥方式：一是IPA干燥方式(在眼镜行业常用)，另一种是热风干燥方式。IPA干燥的清 23fl 第十届中国太阳楚光戗台议论文彝 ‘I一…一 叫VL一 J + 活性剂+超声 清洗剂+超声 纯水漂洗十超声 IPA脱水 IPA慢拉干燥 图1和科谜自动：t洗机示意 1 2自动清洗线(热风干燥) 以捷佳自性产的热风干燥式自动清洗线为代表，见图2，共7槽和4工位隧遭热风干燥。1、2槽为氯气咕 40K}也超声或咕泡溢流和超声．7槽为热去离子水慢拉．接着是4工位热风隧道干燥。 清洗剂+趣声 活性剂+超声 纯水漂洗+超声纯水慢拉2段热风隧道干燥 围2捷佳创热R十蜾式自动■洗线i意图 2实 验 21切水荆的性能和原理 切水剂A．C是一种用于各种金属，树脂、塑料等制品经水性清洗后．过程中的脱水处理的产品，其是由 高精度碳氢粪化舍物通过极度高温高压条件下生产的台成类产品。该品在电子行业、精密加工行业有着广泛的 应用。 会很快失效，因为随着水在IPA里溶解的越米越多．1PA的电阻率急剧下降．硅片表面水分也就越来越多．最 终要更换脚，而切水剂脱水原理是利用本身的极强的脱水能力切去硅片表面求份，使水份从硅片表面剥离． 切除的水份机于容器低部，并不会溶于切水剂中，故切水剂的电阻率不会发生变化，不用更换．只需添加即可。 如此更可提高生产效率切水剂适用于各种需要脱除表面水分的场合．例如LCD框架．晶元体，光学镜片的 晶俸硅太阳t地厦材料 239 脱水，精密机械加工经水性清洗后的脱水，脱水后不留痕迹。在国内半导体行业有的企业使用切水剂替代IPA， 效果很好，大家知道半导体行业清洗硅片洁净度要求比Pv