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CdS多晶薄膜的结构和光学性能研究
李卫,冯良桓,蔡亚平,冷文建,张静全,郑家贵,蔡伟,黎兵,武莉莉,蔡道林,雷智,
鄢强,夏庚培,周晓华,黎明
(四川大学材料系610064成都)
摘要:
本文采用化学水浴法(CBD)制备了CdS多晶薄膜并在不同温度下进行了后处
理.通过XRD,AFM,EDAX,XPS和光学透射谱的测试.结果表明:在玻片上刚沉积
的CdS多晶薄膜均匀,透明,致密:主要呈现立方结构:Cd和s的原子百分比约
ev.在不同温度下后处理会出现六方相的衍射峰,
为1:1:能隙(Eg)约为2.50
并引起晶面择优取向的变化,而这很可能是光学吸收边发生变化的原因.
关键词:CdS,多晶,薄J睨退火Y
+ ’
I’ ,
1引言
CdS多晶薄膜是异质结太阳电池一种重要的N型窗口材料,可以与P型
InP,CdTe,Cu,S.CuInSe,等形成异质结,在光伏转换方面具有广阔的应用前
景。同时由于其禁带宽度和载流子迁移率均较大,还是制作薄膜晶体管TFT
的重要材料。
制备CdS多晶薄膜的方法有很多种:真空蒸发法,化学喷雾法(CMD),
电沉积法,溅射法,近空间升华法,丝网印刷法,高温喷涂法和化学水浴法
(CBD)。由于化学水浴法制备CdS多晶薄膜,工艺简单,成本低廉,成膜均
匀,质密,易实现大规模生产。因此,受到人们的广泛重视。我们也是通过CBD
法制得CdS多晶薄膜。并对其结构和光学性能进行了研究。l】-3]
2实验
2.1实验原理
2’与Cd2+易真接
由于CdS在水中的溶度积(Kp=1.4×10。)‘1’很小。S
反应生成沉淀CdS,成膜过程不易控制,且很难保证质量。因此必须设法控制
Cd2+和S
值保持在8.10。整个过程的反应方程式如下…
Cd(NH3)4”+(NH2)2CS+20H一———◆
其具体反应过程为氨水水解,并与cd2+络合生成Cd(NH3)4”提供cd源,硫脲分解生成
S2-,最后生成CdS薄膜.此反应过程在溶液和玻片上都有CdS生成,因此被称为同质过程。
同时,反应都是在离子或原子之间进行所以也被称做“原子到原子”或“离子到离子”的反
应。
2.2CdS膜的制备
实验用载玻片先用清洁剂清洗,然后用丙酮,甲醇超声振荡,最后用去离
子水多次煮沸。Nz气吹干备用.
所用药品均为分析纯试剂,采用二次去离子水配制。其中各成分的浓度为:
CdCl 0.1 0.02mol/L。
2 0.002m01/L,NH3·H20 5mol/L,NH4C1
0.4m01/L,(NH2)2CS
反应温度控制在80士3℃,Pit值保持8.5-8.8。
反应装置与Inde
3eerKaur,D.K.Pandyaet.a1.采用的装置基本相同,见
6
文【3】.
2.3CdS膜的表征
cdS薄膜的结构采用丹东射线集团有限公司生产的Y4Q型衍射仪来分析确
x。辐射:微结构采用日本Seiko
定,扫描范围20—50。,扫描速度0.03。/秒,Cu
Instrument
S-450型扫描电镜系统里的EDAX分析薄膜的成分:而透射
采用日本HITACHI
谱采用北京普析通用公司的TU一1901型UV—VIS紫外分光光度仪获取,测量范
围200~800hm,扫描步长2nm。
3结果与讨论
3.1 刚沉积的CdS多晶薄膜
3.I.1 XRD分析
COS0),式中D为晶粒尺寸,^为x射线波长,K为常数(一般取
式D=K^/(B
nm.
1),B为衍射峰的半高宽.计算得到晶粒大小
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