激光技术在薄膜科学中的应用.pdfVIP

激光技术在薄膜科学中的应用 陈　兴 　　张 　霆 　　方尚旭 　　罗 　乐 　　膜的一维尺寸大大小于其余两维 。一般把厚度 子体继续吸收激光能量并进一步电离 ,使温度 、压力 μ 小于 1 m 的膜称为薄膜 ,反之则称为厚膜 。由于薄 迅速提高 ,并在靶材表面的法线方向产生较大的温 膜材料具有许多优异性能 , 因此近年来薄膜科学的 度和压力梯度 ,使等离子体沿法线方向在极短时间 ( ) ( 发展极为迅速 ,涌现出许多薄膜制备技术与方法 ,如 内向外作等温膨胀 有激光作用时 和绝热 无激光 ) 真空蒸发沉积 、磁控溅射沉积 、离子束溅射沉积 、金 作用时 膨胀 ,从而在靶材表面的法线方向形成一个 属有机物化学气相沉积和分子束外延等等 。虽然这 细长的等离子体区域 , 即等离子体羽辉 。等离子体 nθ θ 些各具特色的方法在薄膜研究中得到了广泛应用 , 羽辉的空间分布形状可以用 cos 描述 , 为相对于 但是都各具局限性 ,不能满足薄膜研究和制备的需 靶材表面法线方向的夹角 、n 值一般在 5～10 之间。 要 ,而激光则具有单色性和方向性好 、功率密度高等 　　第三阶段 :薄膜沉积 　当等离子体羽辉遇到基 一系列优点 。激光沉积薄膜的方法主要分为两类 : 底表面时 , 由于溅射粒子具有较大能量 ,可越过基底 一类是激光化学反应沉积 , 如激光化学气相沉积 表面位垒 、深入表面几个原子层后 ,逐渐失去能量而 (laser chemical vapor deposition ,LCVD) ; 另一类是 沉积于基底表面形成薄膜 。 ( 激光物理沉积 ,如脉冲激光沉积 pulse laser deposi 　　脉冲激光沉积法和传统制膜技术相比具有显著 tion ,PLD) 。 的优势 。第一 , 由于激光器安放在真空室外 ,因此易 于根据需要调节激光参数 ,控制薄膜生长率 。由于 不同波长激光沉积出的薄膜特性不同 , 因此可选择 ( 不同激光 如二倍频或三倍频 Nd ∶YA G 激光 、各种 ) 准分子激光等 进行沉积 ,也可选用多种激光联合照 射 。第二 ,真空室可配备质谱仪 、光谱仪 、石英晶体 振荡膜厚监测仪等仪器设备 ,实时监测 、分析和调控 ( - 9 ) 薄膜的沉积 。第三 , 由于脉冲宽度在纳秒 1