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!!# 器件与技术 !!# $%’(% ) *%(+,-.-/0 !#$ 单晶硅腐蚀特性研究 ’ ! 邓俊泳 ，冯勇建 （厦门大学机电工程系，福建 厦门 ； ’2 #3’4 !2厦门大学萨本栋微机电研究中心，福建 厦门 #3’4 ） 摘要：0(1/ 是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂，选择性好，无毒且不污染环境，最 重要的是0(1/ 与,(.* 工艺相兼容，符合*., 的发展趋势。0(1/ 正逐渐替代 -./ 和其他 腐蚀液，成为实现()(* 工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。本文着重介绍了0(1/ 的特性、工 艺条件及应用。 关键词：四甲基氢氧化氨；各向异性腐蚀；微机电系统 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） 05%4 1 ’36 ’7%663 !# ’!7#!7# !#$%’ () *+,-,*-%’%* (. /012 *+ ’ ! 8)59 :;7=? ，@)59 A?7BCD （ ， ， ， ； ’!#$ %’(#)’ *+ ,#-.%)/-%0 1 20#-’*)/- 2)3/)##/)3 4 /%(#) 5)/6#7 /’8 4 /%(#) #3’4 9./)% !!:#) ;)3 =%. ,2,= #7#%-. 9#)’# *+ 4 /%(#) 5)/6#7 /’8 ，4 /%(#) #3’4 ，9./)% ） 13’-,* ：EF=CGCHI JD KILCLM NC?N MIGOIKDM;KI DH IMJNC? ，DH NDL IPJIFFIM OKOIKMCIL Q C7 L;FDMC DH JNIGCJDF LMDRCFCSDMC ，CM T;FH RI DOOFCIH TCHIF= C ()(* OKJILL ，ILOIJCDFF= RIQCM M RI ;LIH DL LDJKCQCJC? FD=IK ，CL;FDMC? FD=IK ，LGMN FD=IK ，IMJ2 UDLIH MNI LCGOFI CMK7 H;JMC Q OF=CGCHI ，MNI JNDKDJMIKCLMCJ ，OKJILL QFT DH DOOFCJDMCL C ()(* TCFF RI CMK7 H;JIH IGONDMCJDFF=2 45 6(-$’ ：0(1/ ；DCLMKOCJ IMJNC? ；()(* 异性腐蚀是()(* 中的一个极其重要的工艺，是 ’ 引 言 指在特定的腐蚀液中，硅在某些晶向上的腐蚀速 ()(* 是一个多学科、多领域交叉的新兴学 率很大；相比之下，其他晶向则要缓慢得多，甚 科，主要研究传感器、执行机构及微小机械结构。 至可以认为不腐蚀。根据这种特性，选择适当的 其工艺由 工艺发展而来，主要包括清洗、氧化、 工艺流程，可以加工出所需的各种各样的微结构。 +, 扩散、光刻、腐蚀、气相沉积、封装等。与+, 工 目前最常用的各向异性腐蚀剂是 -./