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均匀沉淀法制备纳米二氧化钛工艺条件研究_雷闫盈.pdf
2001-03,33(2) 雷闫盈 均匀沉淀法制备纳 二氧化钛工艺条件研究 3
*
1 2
,
(1., 719969;2.)
:(TiOSO ), ,
4
TiO , :120 ℃, 2 h, TiOSO ∶CO(NH )=1∶2,
2 4 2 2
2+
[TiO ]=1.8 mol/L。TiO 30~80 nm, 90%。
2
:;;;
+
:TQ134.1 1 :A :1006-4990(2001)02-0003-03
TiO — ,。
2
[1] ,
(S—G )、(CVD ) 。
S—G , ,,,
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TiO , 。CVD , 、、
2
[2] 、。
,, 。
,, 1.2 反应原理
TiOSO4 TiSO4,。 ,
(TiOSO ), 。
4
[3] :
TiOSO ,
4
CO(NH )+3H O 2NH ·H O+CO ←
、TiO 。 2 2 2 3 2 2
2
-
OH :
TiO (S—G CVD 1/4 ~
2
+ -
NH.H O NH +OH
3 2 4
1/3),, 。
TiO(OH):
1 TiO 2
2
2+ -
TiO +2OH TiO(OH)↑
2
1.1 均匀沉淀法理论基础[4~6]
TiO2:
TiO(OH) Ti
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