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　第 10 卷　第 2 期 强　 激　 光　 与　 粒　 子　 束 V o l. 10,N o. 2　 　1998 年 5 月 H IGH POW ER LA SER AND PA R T ICL E BEAM S M ay, 1998　 提高腔靶激光能量注入率的新途径 陈家斌　郑志坚　唐道源　滕　浩　丁永坤　陈红素　李雅轩 ( 中物院核物理与化学研究所, 高温高密度等离子体物理重点实验室, 成都 525 信箱, 610003) 　　摘　要　在“星光 ”上测量了入射孔边缘镀CH 膜的孔靶激光能量注入率, 给出了注入 率随入射激光能量和波长变化的经验公式, 同时对堵口现象物理机理进行了一维数值模拟。实 验结果表明: 镀 CH 膜是增加激光能量注入率、提高腔靶辐射温度的有效方法。 　　关键词　镀CH 膜　激光能量注入率　堵口机理　数值模拟 　　中图分类号　TN 249 　　当强激光进入靶孔时, 由于焦斑的空间分布及入射孔的孔径小, 有一部分能量会照射在靶 孔边缘物质上, 将其加热产生高温等离子体, 等离子体以近似离子声速向孔心膨胀。当喷射到 孔内物质的平均密度超过激光临界密度时, 入射激光被阻产生堵口效应, 直接降低了入射激光 的能量注入。多年腔物理研究表明, 堵口是影响靶腔内X 光辐射温度的重要因素。 　　提高靶腔内 X 光辐射温度的方法很多, 例如缩短入射激光波长、利用高 Z 材料提高X 光 转换效率等。但在入射孔边缘镀CH 膜是美国LLNL 九十年代初提出并应用的, 直到 1994 年 ( ) 才解密。实验中我们在金靶激光注入孔边缘镀上低Z 物质 10m 的CH 膜 。由于轻物质对激 光的能量吸收率低, 因此堵口效应将大大降低, 从而起到提高靶腔内X 光辐射温度的作用。 1　理论计算 1. 1　堵口物理图像及其基本方程 　　当靶孔边缘受到强激光照射时便形成烧蚀云, 等离子体以速度v 向入射孔中心膨胀。假设 小孔边缘的能量吸收仅在临界面附近发生且电子离子等温, 则由质量守恒、动量守恒和能量守 恒可得柱坐标系中离子的径向运动基本方程组 1 = - ( rv ) ( 1) t r r 1 2 I ( ) ( ) ( ) ( ) t v = - r r 〔r p + v 〕+ G - c r - rc 2 3p v 2 2 1 v 2 ( ) ( ) ( ) ( ) t 2 + 2 = - r r 〔rv h + 2 + rq 〕+ v G + I a r - rc 3 式中 为离子密度; 为压力; a 为激光吸收强度; 为热流; 为焓; c 为临界密度点; 为有 p I q h r I c 质动力的简化