硫酸甲醇体系钨电解抛光的可行性研究.pdfVIP

【抛光】 硫酸_甲醇体系钨电解抛光的可行性研究 宋萍1一，邢丕峰2一，谌家军1，李朝阳2，谢军2 (1．西华师范大学物理与电子信息学院，四川南充637002： 2．中国工程物理研究院激光聚变研究中心，四川绵阳621900) 摘要：以硫酸一甲醇酸性体系作为电解液，对钨箔进行电解抛 (包括钨箔膜、钨丝、钨探针、钨管等)用途极广。电 光研究。抛光后钨的表面均方根粗糙度和反射率的测试结果表 解抛光加工处理的钨器件被大量应用于微电子技术、 明，该体系完全适用于金属钨的电化学抛光。对钨的阳极溶解 电光源、电真空技术、防腐蚀器皿等方面。在高精密 行为进行了分析，讨论了溶液组成、槽电压，温度和搅拌速率 对电抛光后钨表面粗糙度的影响。初步确定了金属鸽电解抛光 仪器方面，如透射电镜和扫描隧道显微镜等，除对超 的工艺参数为：硫酸与甲醇的体积比l：7，槽电压15—22v， 微钨探针表面光洁度有高要求外，还对探针尖端曲率 温度15—25oC，搅拌速率10m／s。 半径及有效测量部分具有的长径及锥角等方面都有极 关键词：钨；电解抛光；表面粗糙度；反射率 高的要求【l】。在高技术研究领域，如z箍缩物理实验 中图分类号：TG580．692．2 文献标志码：A 需采用直径几微米的钨丝阵构成圆柱形丝阵负载，对 文章编号：1004—227X(2009)03—0027—04 in 钨丝(直径3一10um)表面光洁性、直径均匀性要求极 of sulfuricacid- Feasibilitytungstenelectropolishing methanol electrolyte／／SONGPing，XINGPi—feng木，CHEN高。激光加载材料状态方程(EOS)在研究材料的高压 Jun Jia-jun，LIChao．yang，XIE 冲击波稳定性、冲击波绝热线以及状态方程的绝对测 Abstract：The of wasstudiedina electropolishingtungsten 量时，对阻抗匹配靶材料箔膜表面要求极为严格，而 sulfuricacid--memanol testresultsofroot electrolyte．nle the 钨是重要靶材之一。目前国内外报道和普遍使用的钨 mean andreflectanceof squareroughness electropolished foilsurfaceconfirmedthe ofsulfuric电解抛光液有如下几种：(1)氢氧化钠或氢氧化钾，又 tungsten feasibility acid—methanolto anodicdissolution electrolytetungsten．The 或是两者的混合液【2】；(2)酒石酸钾钠+氢氧化钠【3】； of was effectsof behavior electrolyte tungstenanalyzed．The and rateon composition，cellvoltage，temperaturestirring 酸[5