同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚.pdfVIP

维普资讯 第 29卷 第 l1期 高 能 物 理 与 核 物 理 Vb1．29．NO．11 2005年 l1月 HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS NOV．．2005 同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚术 巩岩 陈波 尼启 良 崔明启 赵屹东 吴忠华 l(应用光学国家重点实验室， 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 长春 130033) 2(中国科学院高能物理研究所 北京 100049) 摘要 掠射x射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能．尤其是可 以探测膜层厚度、 界面形貌和组成．以北京同步辐射光源作激发光源，采用掠出射方法测试 了Si基片上不同厚度的单层 Cr膜样品，测试结果与理论计算基本符合．同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光 的干涉现象． 关键词 同步辐射光源 掠出射 x射线荧光 薄膜 1 引言 是在检测轻元素为主 的样 品时．同步辐射光源以其 高亮度(强度)、高准直性和很高的偏振度等优 良特 性，在掠射x射线荧光分析上得到了很好的应用 也 随着科技的发展，现代社会对纳米量级膜层材料 给x射线荧光分析技术和分析性能上带来了突破性的 的需求不断增加，例如集成电路、固体激光及x射线 进展 镜等．掠射x射线荧光法是分析这类膜层材料特性的 本文主要讨论了掠出射x射线荧光分析薄膜样品 一 个有力工具lJ．一般情况下，掠射是指掠入射角或 特性的理论，介绍了在中国科学院高能物理研究所同 者掠 出射角小于50mrad的情况．掠射x射线荧光分 步辐射束线上对不同厚度的薄膜样品进行测试的结果 析薄膜特性能给出薄膜厚度、密度、界面粗糙度、膜 和分析． 层晶格结构和膜层剖面分布等信息．掠射方式有3种 形式2【]：单独掠入射方式、单独掠出射方式和掠入射 2 基本理论 结合掠出射方式．掠射方式和反射率测量结合更是近 年来膜层特性分析的研究方向之一3【’．掠入射方式 在入射角小于临界角的情况下，入射x射线会在 在微量和痕量元素分析方面已显示 了很大的潜力，也 样品表面发生全反射的现象．如果不考虑吸收限处的 可以用来分析薄膜或样品表面，但因其操作时激发光 共振现象和量子效应，根据经典的色散理论，x射线全 束需要以很小的掠射角入射到样品表面，所以x射线 反射的临界角由下式给出 的穿透深度很浅，只能对几个纳米深的薄膜进行分析， 1．65 … 而且，通常情况下激发光束需要单色化，结构复杂，在 ％it 百 V p， l1) 某些场合不利于应用；同样，掠入射和掠出射复合方 其中： 。m是入射光束和反射面的夹角，即掠入射角， 式也存在穿透深度浅，应用范围有限的缺点．而掠出 z， 和p分别为反射体材料的原子序数、原子量和密 射方式因其激发光束是以垂直或近乎垂直的角度照射 度(g／cm。)，E为入射或反射x射线的能量(keV)．按照 到薄膜样品的表面，所以穿透深度较深，可 以对深达 光学反射定律．在理想情况下，掠出射角应该等于掠 几百纳米的膜层进行分析 。【’． 入射角，但由于存在吸收等现象，因此，在掠射x射线