真空镀膜膜层厚度均匀性计算与工件架的设计.pdfVIP

真　　　　空 第 1 期 4 V acuum V acuum T echno logy and M aterial　　　　　　　　　　1998 年 2 月 真空镀膜膜层厚度均匀性计算与工件架的设计 曹仁福 (上海真空泵厂) Ca lcula tion of F ilm - th ickness Un iform ity and the D esign of W orkp iece Holder in a Vacuum D eposition Equipm en t Cao R enf u (Shanghai V acuum Pum p Facto ry) Abstract In th is paper, the theo retical calculation and the p ractical m easurem ent fo r the film th ickness unifo rm ity has been p resented. A cco rding to the requirem ent of film th ickness unifo rm ity and the autho r’s experience, a reasonable selection and op tim um design of w o rkp iece ho lder has been m ade. 摘　要　本文介绍了在真空镀膜中膜厚均匀度的理论计算和实际测量, 并根据对膜厚均匀度 的要求和作者多年的实践经验, 提出了真空室内工件架的合理选择和最佳设计原则。 主题词: 真空镀膜　膜厚均匀度计算　工件架　设计 工业生产要求真空镀膜层厚度的分布是均匀的或者是按特定要求的比例分布。如光学零 件的增透膜、干涉滤光膜要求很高的均匀度, 非球面薄膜则要求在平面上淀积抛物线型的厚度 分布层。 为了控制厚度的分布, 首先要找出影响膜厚的主要因素, 从理论上来计算厚度的分布, 从 而在制膜工艺上控制这些因素, 以达到预期的效果。 ( ) ( ) ( ) 影响膜层厚度的主要因素有: 1 衬底表面的形状。 2 蒸发源的特性。 3 蒸发场的物理 性质。 假定蒸发场的物理性质满足如下条件: 工作室的气压很低, 足以保证蒸发物质的分子不受 到剩余空气的碰撞而直接到达衬底表面, 且立即凝结。一般来说, 普通高真空镀膜设备的工作 4 真空度均等于或小于 1 ×10 , 此时, 剩余气体分子的平均自由程 0. 5 。而实际生产中 To rr m 蒸发源至凝结点的距离一般是不会超过 0. 5 的, 所以蒸发分子可以不受阻碍地到达衬底表 m 面, 并设蒸发物分子之间的碰撞可忽略不计。 对于蒸发源, 最理想的是一个极小的点状蒸发源, 它的直径相对于蒸发源至衬底表面的距 离而言是很小的, 可以忽略不计, 而且在蒸发时各个方向上的物理性质均等。设有M 克物质从 点源蒸发后凝结于半径为R 的球壳内表面上, 若点源位于球的中心, 则球内表面上的膜层应 是均匀的, 因为各向上的物理性质均等。 收稿日期　　　邮编　201709 第 1 期