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田广科 等: 法渗 制备 高硅钢过程组织结构与性能演化研究
PVD Si 6.5%Si 01117
文章编号: ( )
1001G9731201501G01117G04
法渗 制备 高硅钢过程组织结构与性能演化研究∗
PVD Si 6.5%Si
,
12 1 1 2
, , ,
田广科 孙 勇 孔令刚 毕晓昉
( , ;
1.兰州交通大学 国家绿色镀膜工程中心 兰州 730070
, )
2.北京航空航天大学 材料科学与工程学院 北京 100191
[, ]
: ( ) 213G14 . ( )
摘 要 基于物理气相沉积 之直流磁控溅射 高硅钢薄板 日本钢管公司 基
PVD 6.5%Si NKK
,
镀膜技术在低硅钢薄板双面共沉积富 膜 然后高温 于 扩散增 法成功实现 高硅钢工业化
Si CVD Si 6.5%Si
, . 、
真空扩散处理使 渗入低硅钢基体 提高基体含 生产 但是由于 法存在腐蚀设备 污染环境等弊
Si Si CVD
. , ( )
量 以沉积 膜 扩散为 回合 端 文章作者近年来开发了物理气相沉积 法制
FeSi +1180℃×1h 1 PVD
5 3
[ ]
13
, .
增 处理 研究了多回合循环增 处理过程硅钢基体 备 高硅钢薄板技术途径 本文研究了
Si Si 6.5%Si PVD
.
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