原创力文档- 1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
磁控溅射NiONiFe薄膜的磁性及XPS研究.pdf
( E 辑)
第32 卷 第4 期 SCIENCE IN CHINA ( Series E ) 2002 年8 月
磁控溅射NiO/NiFe 薄膜的磁性及XPS 研究*
于广华 柴春林 朱逢吾 赖武彦
(北京科技大学材料物理系, 北京 100083 ) (中国科学院物理研究所, 北京 100080)
摘要 用射频/直流磁控溅射制备了 Ta/NiO /Ni Fe /Ta 磁性薄膜, 并利用X 射线光
x 81 19
电子能谱仪(XPS)和振动样品磁强计(VSM)研究了NiO 不同化学状态对Ni Fe 交换耦
x 81 19
合场 Hex 及该磁性薄膜的矫顽力 Hc 的影响以及 NiO/Ni81Fe19 界面反应. 结果表明 反
应溅射中的 Ar/O2 比对 NiOx 中镍的化学状态有很大的影响, 当溅射气压为 0.57 Pa,
Ar/O 为7 ︰1 时, 制备的NiO 中的x 1, 镍为+2 价, 相应的H 最大. Ar/O 比偏离7 ︰
2 x ex 2
1 时, NiO 层中出现单质镍和+3 价的镍, 相应的H 也下降, 单质镍的出现还会增大该
x ex
磁性薄膜的矫顽力H . XPS 的分析还表明, 在NiO/NiFe 界面发生了反应 NiO + Fe = Ni
c
+ FeO 和3NiO+2Fe = 3 Ni + Fe O . 给出了界面上存在磁性杂质的证据, 这些磁性杂质
2 3
会影响NiO/NiFe 的H 和H .
ex c
关键词 NiO /NiFe 磁性杂质 交换耦合场H 矫顽力H X 射线光电子能谱(XPS)
x ex c
[1]
自旋阀结构的巨磁电阻薄膜被用于制作计算机硬盘读头具有广阔的应用前景 , 在该结
构中利用了反铁磁层对铁磁层的钉扎作用, 因此最近几年研究反铁磁层对铁磁层的交换偏置
已经引起了电子技术和物理领域的极大兴趣. 虽然已对各种交换偏置系统做了广泛的研究,
但到目前为止, 交换偏置机理仍不甚清楚.
[2]
最早的理论模型认为 , 交换耦合场He
文档评论（0）