旋转对环形浅液池内硅熔体热毛细对流影响.pdfVIP

中国工程热物理学会 传热传质学 学术会议论文 编号：083302 旋转对环形浅液池内硅熔体热毛细对流的影响 石万元，李友荣，彭岚 (重庆大学动力工程学院，重庆400030) (Tel：023Email： shiwy@cqu.edu.cn) 摘要：为了理解旋转对环形池硅熔体(Pr=0.011)热毛细对流的影响，三维数值模拟了外壁高温、内壁 低温，内半径 20mm、外半径40mm 、深度 1~3mm 的环形浅液池内的热毛细对流，发现随着液池旋 转速度的增加，热毛细对流的周向速度增大；外壁附近表面流体的周向速度与液池的旋转方向相反； 低速旋转(Ω=0.21rad/s)使热流体波呈弯曲状，且热流体波的周向传播方向与液池的旋转方向相同； 提高旋转速度(Ω=0.52rad/s) ，热流体波被完全抑制，表明液池的旋转能够稳定热毛细对流。 关键词：热毛细对流，热流体波，旋转，硅熔体 0 引言 在单晶体材料生长过程中(如Czochralski法)，熔体自由表面的热毛细力驱动流体运 动，形成热毛细对流。当径向温度梯度超过一定阈值时，热毛细对流转捩为不稳定状态， 它使熔体内物质成分分布不均匀，从而影响所生成的单晶体材料质量。为了使Czochralski 坩埚周向均匀受热，坩埚往往以一定的角速度旋转[1] 。旋转使液池内流动更为复杂，尤 其是旋转对热毛细对流不稳定性的影响，目前还了解不多。Li等人[2]发现旋转液池内热 毛细对流有两个不稳定态，它们随径向温差的升高或降低相互转换。我们以前的数值模 拟发现旋转使硅油(Pr=6.7)液池内热毛细对流更容易失稳[3] 。然而，关于旋转对低普朗 特数的硅熔体(Pr=0.011)热毛细对流稳定性影响的报道还很少。这里，我们数值模拟了 旋转对硅熔体液池内热毛细对流稳定性的影响。 1 物理数学模型和数值方法 如图1所示，内半径r =20mm 、外半径r =40mm 的环形池内盛硅熔体，液层深度 i 0 d=1~3mm 。底面为固壁，液层上表面为自由表面，假定自由面平整无变形。环形池内、 外壁分别维持恒温T 、T (T T ) 。环形池以角速度Ω绕z轴旋转。假定液池底部和自由面 h c h c 绝热，硅熔体为不可压缩流体，除表面张力外，满足Boussinessq近似，流动为层流，考 虑自由表面的Marangoni效应(即热毛细力)，所有固壁表面满足无滑移边界条件。忽略 重力的影响。硅熔体的物性参数见表1。 图1 硅熔体环形池示意图 表1 硅熔体的物性参数[4] Prandtl number, Pr 0.011 3 2530 Density, ρ [ kg/m ] -4 Viscosity, µ [ kg/m s ] 7.0 × 10 2 2.53 × 10-5 Thermal diffusivity, α [ m /s ]