插值拟合法在薄膜表面形态模拟和均匀性分析中的应用研究.pdfVIP

插值拟合法在薄膜表面形态模拟及均匀性分析中的 应用研究‘ 曹鸿，吴永刚，郑秀萍，张莉，付联效，焦宏飞，彭东功，王振华 (同济大学，精密光学工程技术研究所，上海200092) 摘要：利用径向基函数网络插值法模拟薄膜表面形态，并利用反距离加权平均捅值法研究了薄膜的均匀性 与静置时间和提拉速度的关系．结果表明：利用离散点插值拟合法研究光学薄膜表面的起伏变化以及均匀 性分布，可以比较真实地反映薄膜表面形态特征和薄膜均匀性的变化规律。 关键词：插值光学薄膜表面形态均匀性 插值拟合方法是利用采样点数据对未采样点进行估计拟合的数学方法，被广泛用于对连 续空间的数值计算【1之】。插值拟合方法分为两类，一类是确定性插值拟合方法，另一类是 地质统计学插值拟合方法。确定性插值方法是基于信息点之间的相似程度或者整个曲面的光 滑性来创建一个拟合曲面，比如径向基函数网络法、反距离加权平均插值法(IDW)、趋势面 法、样条函数法等；地质统计学插值方法是利用测量点的统计规律，使样本点之间的空间自 相关性定量化，从而在待测点周围构建测量点的空间结构模型[3]，比如克立格(Kriging) 插值法等。确定性插值方法的特点是测量点处的插值结果和测量点的实际测量值保持基本一 致，所有测量点都会分布在插值拟合曲面上，离散点所呈现的规律可准确、形象、生动地反 映在连续曲面上，有利于对测量数据做进一步的深入研究。而地质统计学插值方法的插值结 果与实际测量值不一定一致，有时相差甚远，地质统计学插值方法主要用于解决数字高程模 型、地质寻矿等地质问题。考虑到光学薄膜表面具有表面张力、弹性力等特性，在模拟光学 薄膜表面形态和均匀性时，本文分别使用了径向基函数网络插值方法和IDW插值方法。 1插值拟合方法 1．1径向基函数网络插值方法 Basis 径向基函数(Radial 代末提出的新的神经网络方法，在逼近能力、分类能力、学习速度等方面均优于BP人工神 经网络，最突出的是RBF网络预测的稳定性较高[4]。RBF网络是在借鉴生物神经的局部调 节功能和动物大脑中存在的交叠接受知识区域的基础上提出的一种采用局部感知场来实现 函数映射的人工神经网络，可用于任意多维实变量空间的插值问题[5~6】。其优点在于它对 原始数据的分布形式和边界条件没有特别的要求，收敛速度较快，可以逼近任何复杂陆面，而 且在插值点上保证与已知测量点数值保持一致[7]i 1．2IDW插值方法 IDW(InverseDistance Weighting)插值方法即反距离加权平均插值法，它的思路是： 以插值点为中心，在一定范围内搜索待插值点，根据实测点与待插值点之间的距离分配权重 系数，实测点的加权平均值就是待插值点的插值结果。也就是说实测点对待插值点的影响程 度是厦琪距离面衰减的，距离愈远影响越小，距离越近影响越大。这种插值方法曲优越性是 直观、效率高，并且简单易行，可操作性很强，其数学描述如下： 户=喜扣嘻古 ㈣ ’基金项目，国家自然科学基金和中国工程物理研究院联合资助项目 作者简介一曹鹂(1977)。女，IU东聊城人．博士研究生，主要从事短波长软X射线滤光膜的研究 lnnI．ed n 通讯作者：吴永Ⅲ．11mmhwWamall 其中P是待插值点插值结果，P(f=l～玎)是搜索范围内的实测样本点值，玎为搜索范 围内参与插值的样本点数量，谚是待插值点与第i个样本点之间的距离，P是距离的幂，P 越大，影响程度随距离衰减越强烈，当P=2时，既为反距离加权平均插值法。 2薄膜表面形态模拟 利用径向基函数插值方法模拟薄膜表面形态的思路是：首先采集薄膜上不同位置的厚 度数据，然后根据这些离散测量点，运用径向基函数网络插值法拟合基片薄膜表面起伏形态。 2．1数据采集 用Vecco Dektak6．0台阶仪测量薄膜不同位置处的厚度，每一个厚度值口(x。，Y。)对应 一对位置坐标(毛，y，)，采集完毕后，把测量数据整理生成离散点测量数据文件，测量数据 代表的物理量意义如表l、图1所示： 表1测量数据文件格式 圈l各物理量代表意义