台灣奈米計量-尺寸參數標準之發展.pdfVIP

台湾奈米扑量一尺寸参敷檩翠之霰展 割惠中1木隙朝粲1傅尉恩1林志明1割承埸1潘善鹏1隙怡菁2 1工棠技衍研究院量测技衍霰展中心研究具 1工棠技衍研究院量测技衍骚展中心副研究员 摘要。 『奈米技衍针量檩辈研究J之目的捣建立具良好追溯性的奈米棵犟舆静量技衍，袋 展以原子或分子揭基磋的静量檩荦，以捣畏期虚棠及经滂袋展奠基。本文介绍之奈米尺寸 参敷量测追溯著重於(1)奈米粒径棵挲，捣结合鼋遥移率分析法(DifferentialMobility AerosolBalance，EAB) Analysis，DMA)量测技衍舆罨重力平衡法(Electro-gravitational 量测技衍之静鼋力分雕法；(2)研究；|哿以光散射的原理，作稳晶圆表面奈米微粒量测技衍， 2007年已建立光孕量测系统主架槽：(3)薄膜膜厚量测，其量测筢圉鹅1．5姗’200nm之 膜厚；(4)探用超细微探针之AFM，赣展量测50 nm以下之综宽／缘距量测技衍。 明键字：奈米粒径、AFM、缘宽、综距、薄膜膜厚、晶圆表面奈米微粒 1．前言 奈米技衍的蓬勃骚展，终将引袋封各疆微小物髓尺寸量测拳碓度的疑虑，所有先遥的 檩辈寅驻室，乃因虑技衍骚展的趣势，相翘投入奈米量测舆射量檩犟的研究，以支援奈米 技衍在量测棵犟舆追溯之所需。奈米尺寸参敷之量测追溯键的建立及量测技衍研骚，由现 有基磋出敷，桧封奈米技衍榆测参敷追溯至SI罩位遇程中，量测追溯键的断屠或是规格不 符虎，予以建立或袖强，本研究建立之奈米粒径棵辈，剐提供了奈米性的追溯需求，申请 奈米檩章韶恙廒商，需先将其麈品或裂程原材料送至桧测寅验室碓韶是否鹅奈米尺寸，追 溯之最高檩举即鹅本研究所建之奈米粒径檩举。 在2006年台湾半尊髓大廒都己造入65舳敷程之量虚，现有SEM枷量测网键尺寸，都 有棰大误差，弱提高袋程之良率，需提高朗键尺寸(criticaldimension)之量测技街。而 奈米尺寸棵犟(奈米综宽、奈米膜厚、highk材料、晶圆表面微粒)的建立，剐依摅半尊髓 麈棠、FPD废棠之需求，提供了半尊虚檠新世代裂程的嗣键桧测技衍及檩辈追溯，捣支持半 尊髓桨持缜向前骚展奠定了基磋，碴保麈桨在园隙，之兢争力。 本研究主要目的在奈米尺寸的追溯上，逶择目前奈米裂程中最常用的量测参敦如综宽／ 综距、膜厚、陛高、表粗、粒径等，蓝针封三雉的量测及分析软髓建立软髓黢跫及棵犟参 考资料，期望能建立在三雉尺寸量测上能逵到次奈米级的量测不碓定度，本文则主要介绍 缘宽／综距、膜厚、粒径等量测系统。 2．奈米尺寸参敷檩率之量测技衍 2．1奈米微粒量测技衍 奈米檩犟粉髓粒径的均一化，有赖於最高单碓度的簖送方法，奈米等级的微小颗粒常 用静鼋力箭送的方式，如鼋遥移率分析法(Differential MobilityAnalysis，DMA)或是 Aerosol 露重力氟腥平衡法(Electro-gravitational 15l nm一500 EAB技衍以逵奈米粉髓均一化(如固l、固2)。其中DMA量测系统(量测篦圉：20nm) 用以做稳比较式粉髓粒徭量测：而EAB量测系统(量测就圉：100姗一500nm)则用以做捣 绝封式粉髓粒径量泓2007年度已完成DMA量测系统之软硬髓整合舆EAB量测系统之密立根 槽(MiIIikanCell)本髓建置。 DMA量测系统乃利用氟胳化粉髓颗粒在微流中的拖曳力舆静罨力的相互作用，造而筋 送出特定粒径尺寸就国的粉髓[2]。DMA量测系统是目前普遍被恝稳最早用东精碓量测氟腰 奈米粉髓粒径分怖的毅侑之一，基本上此量测系统有雨佃主要的虑用：其一捣用以量测粉 髓的粒径分饰；其二剐是用以连绠分镏出微小筢囤粒径的粉髓，後者常用於奈米粉髓舆功 能性材料的化孥合成方面。在DMA