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铝合金表面DTMS硅烷膜的制备及耐蚀性能研究
龚健民,鲁道荣,邓君和
(合肥工业大学化学工程学院,合肥230009)
摘要:采用浸涂技术在6063铝合金表面制备了十二烷基三甲氧基(DTMS)硅烷膜;采用线性扫描伏安法与交
流阻抗法对该膜在3.50%NaCl溶液中的耐蚀性能进行研究;采用SEM研究硅烷膜腐蚀前后的形貌变化.正交
体积Vl=lml,V
100℃,固化时间20min;线性扫描伏安法测试表明,形成的硅烷膜在3.50%NaCl溶液中有很好的耐蚀性能;通过
对EIS数据的拟合,得到电极的等效电路;SEM测试表明,铝合金表面形成致密均匀的硅烷膜在腐蚀前后形貌几
乎不变.
关键词:硅烷膜;正交实验;6063铝合金;耐蚀性能
中图分类号:T6—174.4 文献标识码:A 文章编号:1673—162X(2008)S2—0016—05
6063铝合金广泛应用于建筑铝门窗、广告牌框架等行业,为了使其具有较强的耐蚀性能,近年来采用
硅烷偶联剂对其表面进行处理已是研究热点【l。3】,并提出该硅烷化处理可以代替对环境和人体有毒害作
用的铬酸盐处理工艺H’5
J.该工艺是由带烷氧基的硅烷试剂水解生成硅醇,并与铝合金基底形成极强的
Me—O—Si键,同时硅醇之问也可缩合成网状结构,从而提高铝合金抗腐蚀能力.
硅烷在金属表面成膜的影响因素很多,包括基体表面清洗、溶剂与硅烷试剂的配比、水解时间和温度、
浸涂时间以及固化温度与时间等.该文选取十二烷基三甲氧基硅烷(DTMS)体系,采用正交实验研究了成
膜的最佳工艺条件,用稳态极化曲线研究了硅烷膜的耐蚀性能,同时通过最优条件成膜的电极的电化学阻
抗谱,提出电极的等效电路.
1 实 验
1.1实验试剂与仪器
lmm厚6063铝合金板,十二烷基三甲氧基硅烷(荆州市江汉精细化工有限公司),无水乙醇等;PHS一
2C型精密酸度计,CHl660B型电化学工作站,恒温槽,SEM等.
1.2试样的制备
燥器中待测试用.
1.3硅烷溶液的配制
将一定体积(y,)的DTMS溶于y:(V
硅烷溶液的pH值,将其放人恒温槽中水解.
1.4正交实验方案
(t,)等8个因素分成两组正交试验.首先固定,,t。,t:,£,的值,对其余4个因素进行正交试验,即得到K,
K,pH,t’,4个因素的最佳条件;然后在此条件下对£”,t。,t:,t,进行正交试验,分别得到该4因素的最佳条
件,卜.述两组得出8个因素下的最佳水平即为最佳工艺条件.正交表设计如表1、表2所示,选择相关的正
交表为k(34),共做18次试验.
收稿日期:2008—09—28
作者简介:龚健民(1981--),男,安徽霍山人,合肥工业大学化学工程学院2006级硕士研究生
增 fⅡ 黄健民,等:销台金表面DTMS硅烷膜的制备及耐弛性能研究 17
表l 第一组正交实验因素水平表 表2 第二组正交实验因素水平表
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