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第三章 器件设计技术.pdf
第三章 器件设计技术
2013/2/26 Tuesday 1
第一节 引言
集成电路按其制造材料分为两大类:
一类是Si (硅),另一类是GaAs (砷化
镓)。目前用于ASIC 设计的主体是硅材
料。但是,在一些高速和超高速ASIC 设
计中采用了GaAs材料。用GaAs材料制成
的集成电路,可以大大提高电路速度。目
前Si工艺比较成熟。
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ASIC
Silicon GaAs
Bipolar MOS Bipolar FET Logic
……
2
ECL/CML TTL I L NMOS PMOS MNOS
CMOS
CMOS/SOS HSMOS Metal Gate VMOS
CMOS
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1、在双极型工艺下
ECL/CML :
Emitter Coupled Logic/Current Mode Logic
射极耦合逻辑/ 电流型开关逻辑
TTL :Transistor Transistor Logic
晶体管-晶体管逻辑
I 2 L :Integrated Injection Logic
集成注入逻辑
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2、在MOS 工艺下
NMOS 、PMOS :
MNOS :Metal Nitride (氮)Oxide Semiconductor
(E)NMOS与(D)NMOS组成的单元
CMOS: Metal Gate CMOS
HSCMOS :High Speed CMOS (硅栅CMOS )
CMOS/SOS :CMOS/Silicon on Sapphire
(兰宝石上CMOS,提高抗辐射能力)
VMOS :Vertical CMOS (垂直结构CMOS
提高密度及避免Latch-Up效应)
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第二节 MOS晶体管的工作原理
MOSFET (Metal Oxide Semi-conductor Field
Effect Transistor ),是构成VLSI的基本元件。
简单介绍MOS 晶体管的工作原理。
一、半导体的表面场
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