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X射线光电子
能谱技术在腐蚀研究中的应用
徐昌盛张三平周学杰李耀玺张炬田 丰胡章枝
(武汉材料保护研究所湖北武汉430030)
[摘要]X射线光电子能谱(X—rayphotoelectron
固体样品表面所含的元素种类、化学组成以及有关的电子结构等重要信息。而腐蚀往往就发生在材料的表面上,
因此XPS在研究材料腐蚀方面极为有用。本文综述了目前X射线光电子能谱技术在国内外腐蚀研究中的应用。
[关键词]x射线光电子能谱(XPS)表面分析腐蚀研究
1 引 言 我们可以分析确定它们的成分、元素价态及相对含量,
进而解释材料发生腐蚀或耐腐蚀的机理旧叫1。另外
Photoelectron
X射线光电子能谱(X—ray Spectros—
XPS还可以辅助研究一些防腐方法,判断其性能好坏。
copy,xPs)又称化学分析电子能谱(ElectronSpectros—
目前国内外运用XPS技术研究腐蚀的报道很多,现归
forChemical
copy Analysis,ESCA)。该方法是在60年
纳总结如下。
代由瑞典科学家K.Siegbahn教授发展起来的。x射
2.1分析腐蚀产物
线光电子能谱是探测试样在x射线粒子作用下发射出
来的电子,通过测定试样束缚电子的结合能从而得到 材料发生腐蚀时一般在表面都会产生腐蚀产物,
试样表面的元素组成、化学状态以及各种物理效应的 腐蚀产物包括:材料与腐蚀介质发生化学或电化学作
能量范围和电子结构。三十多年来,XPS已从刚开始 用在表面直接生成的产物;随着腐蚀过程的进行,靠近
主要用来对化学元素的定性分析,业已发展为固体材 材料的液层中组分变化引起的次生反应所产生并黏附
料表面元素定性、定量分析及元素化学价态分析的重 在材料表面的产物。这些腐蚀产物往往成膜覆盖在材
要手段…。目前该分析方法在日常表面分析工作中的 料表面,而腐蚀过程的许多特点与膜的性质变化有关,
份额已达到50%,是一种最主要的表面分析工具。近 致密的膜对材料有保护性,而疏松的膜可能促进腐蚀。
年来,许多人将XPS应用到腐蚀研究中,使腐蚀研究更 可见了解腐蚀产物的性质对材料腐蚀研究尤为重要。
加深入,得到了许多传统方法无法得到的信息,推动了 金属是用途最广的材料,跟其它材料相比也是最
腐蚀研究快速向前发展。 容易发生腐蚀的。由于金属的腐蚀介质比较广泛,金
属腐蚀产生的价态也比较多,因此金属腐蚀产物的组
2 X射线光电子能谱在腐蚀研究中的应用
成很复杂,一般的方法难以进行全面的研究。因此许
多研究人员尝试使用XPS分析各种金属的腐蚀产物。
x射线光电子能谱(XPS)技术所具有的高绝对灵
敏度和高表面灵敏度以及丰富的信息量,是其它方法
难以比拟的,成为界面或表面分析的有力工具悼】。材 NaCl水溶液中形成的腐蚀层进行了分析,测试表明
料发生腐蚀时,表面会发生元素价态及种类的改变,因
此XPS在研究材料腐蚀方面极为有用。利用内层能谱
峰及其化学位移对腐蚀产物及钝化膜进行定性、定量
分析是目前XPS在腐蚀研究中的主要应用,通过XPS
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