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2003年10月 第十二届全国电子束、离子束、光子束学术会 北京
5偏振光离轴照明成像模拟研究
余国彬姚汉民胡松刘业异
(中国科学院光电技术研究所,成都610209)
摘要矢量衍射理论适用于大数值孔径光学系统中研究照明光的偏振态对成像对比度的影响。本文
主要研究了离轴照明下的S偏振光和P偏振光对成像的影响;发现照明光的偏振态严重影响了空
间成像,结果表明在大数值孔径的光刻系统中,可以通过调制照明光的偏振态来提高光学系统的
分辨率。
关键词:离轴照明;偏振光;对比度
1、引言
现代微电子技术向着高集成度的超微细化方向发展,高密度、高速度和超高频器件不断出现,
促进了信息高速公路、信息交换网络,全球移动通讯技术,多媒体技术的发展。为了抢占信息科
学的制高点,世界各国都投入大量的物力、人力和财力研究开发提高光刻分辨率和改善焦深的方
法…“J。在传统上通常采用提高光刻物镜的数值孔径和缩短曝光波长,为了达到更好的分辨率和更
大的焦深,提出了相移掩模(PSM)、离轴照明(oAr)、光瞳滤波等超高分辨率技术。相移掩模和光
瞳滤波技术是通过调制成像光束的相位、振幅,而离轴照明技术则是通过调制掩模图形的相干性
来提高分辨率和焦深。众所周知,偏振是光的一个很重要的特性,对于容易偏振的光波,其点扩
散函数的分布是不对称的,如在高数值孔径的光学系统中光强分布沿着偏振方向而扩散”J,成像
光束的偏振性就严重地影响了成像质量,由此可知,可以通过调制成像光束的偏振特性来提高光
刻分辨率,这将是一种新型的超分辨率技术。
偏振光离轴照明是利用光的偏振方向对衍射受限成像系统分辨率影响的规律,结合离轴照明
技术进一步提高光刻分辨率的高新技术。与通常意义上对波前进行修正的离轴照明、相移掩模以
及光瞳滤波等技术在本质上有很大的不同。随着数值孔径(NA)的增大、波长的缩短,基于偏振
特性的矢量衍射效应对光刻图形的传递影响越来越大。由于偏振方向相互垂直的光不产生干涉效
应,若使掩模上相邻图形透过偏振方向相互垂真的光,则相邻图形的像在硅片上不会产生次峰,
故邻近效应小,可进一步提高分辨率。
基于标量成像的研究方法在小数值孔径投影光刻系统中能保证研究结果的正确性和精度,但
此研究方法已经不适用于大数值孔径的投影光刻系统,更不能处理光的偏振特性。已经有人用矢
量衍射理论研究出了光刻光学系统焦点区的电磁场的表达式14]【5】,其中一个公式适用于这儿模拟。
2、物理模型
部分相干离轴照明是建立在Hopkins理论的基础上,如图1所示。假设投影光刻光学成像系
统是理想的光学系统,把掩模面的变量和硅片面的变量进行统一,贝Ij入射波分布的权重函数
f(t,,t,)和掩模图形传递函数a(‘一f,,‘一ty)作如下统一
f(t,,ty)=,(一m“x,-muy)5g(u,,“,)
国家自然科学基金资助项目,资助号
-317·
2003年lO月 第十二届全国电子束、离子束、光子束学术会 北京
m,y)=c∑』』』札.,V,,)占+(vx2,Y,:)TCC。(VglVyI;Vx2VY2)
式(3)中:TCCk(V*,Vy.;V,:,Vy:)一矢量传递交叉系数,其表示为
TCCk(V%,Vyl;V‰,Vy2)=
(4)
式(4)中:只(H,+V^,Uy+Vy。)一矢量光瞳函数,可以表示为
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