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第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报
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掺铒!#$% $%’( 薄膜中!#$% 和)*+ , 与非辐射复
合缺陷间相互作用对薄膜发光特性的影响!
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陈长勇 陈维德 王永谦 宋淑芳 许振嘉
!)(中国科学院半导体研究所,北京 !$$$% )
)(中国科学院凝聚态物理中心,表面物理国家重点实验室,北京 !$$$%$ )
( 年 月 日收到; 年 月 日收到修改稿)
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对 薄膜中纳米硅( )、 和非辐射复合缺陷三者间的关系作了研究 在 光激发
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下, 薄膜在 和 处存在较强的发光,前者与薄膜中的 有关,后者对应于 4 从第
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一激发态 到基态 的辐射跃迁 随薄膜中 含量的提高, 处的发光强度明显增强, 处的发光
9!. 9!6. 5 12 !56’ 7 86$ )7
!
强度却降低 处理可以明显增强薄膜的发光强度,但是对不同退火温度样品,处理效果却有所不同 根据以上实
5 :
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