等离子体清洗GaAs和Al衬底的RHEED图像分析.pdfVIP

第 卷 第 期 华 中 科 技 大 学 学 报（自然科学版） ** I EL; ’ ** AL ’I !I 年 月 （ ） I [ ’ 2-\1L/P X/,R ’ LN U6, ’ V H461 ’ A-32J4 U6,4/64 ?5,3,L/ D-. !I 等离子体清洗 8-9: 和9; 衬底 ! * 的=??@ 图像分析 ( ( ! ! 章家岩 郎佳红 秦福文 顾 彪 （安徽工业大学 电气信息学院，安徽 马鞍山 ； ( !#*! ! 大连理工大学 三束材料改性国家重点实验室，辽宁大连 (()!# ） 摘要：针对8-9: 和9; 作为外延8-A 薄膜的主要衬底材料，采用电子回旋共振等离子体增强金属有机化学 ! * 气相沉积（ ）工艺对其分别进行纯氢、氢氮等离子体清洗，并配备高能电子衍射仪（ ）实时 ?B=$C?DBE@ =??@ 监测清洗过程’ BB@ 的=??@ 图像分析表明，在一定条件下用纯氢等离子体对8-9: 衬底清洗只需( F,/ 左 右，即可得到比较平整的清洗表面，但清洗 以上表面质量开始变坏 若在氢气中加入少量氮气，清洗时间 ! F,/ ’ 可延长至 左右 而 衬底对纯氢等离子体的清洗时间比较敏感，清洗 左右就能获得平整的清 ( F,/ ’ 9; ! F,/ ! * 洗表面，若时间延长到 ，表面质量将开始变坏 如果采用氢氮等离子体清洗，约需 时间，而且在很 # F,/ ’ ! F,/ 宽的清洗时间范围（ ）内都能获得良好的清洗表面 ! G * F,/ ’ 关 键 词：电子回旋共振等离子体增强金属有机化学气相沉积； ；氢等离子体；氮化 8-A 中图分类号： 文献标识码： 文章编号： （ ） HA