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带 u卷 第10期 物 理 学 报 Vo1．40 № ．1O 199i年 10月 ACT^ PHYSICA SINiC^ oct．． I99I B掺杂对Ni原子溅射产额的影响 王震退 章骥平 潘冀生 陶振兰 中耳科学院上毒原子拉研究所 ，上毒，20iS00 张慧明 张伟坪 卢兆伦 杭州太学测试 中心，杭州，51002~ 1990年 11月26日收到 用卢瑟福背散射技术研究了Ni基体中掺B对离子碱射产额的影响． 实验结果发现掺B 后 Ni原子的溅射产额 y比未掺 B的纯 Ni样品有明显减少． 虽然这种溅射产额差值 A丫与 Painter和 A~crill(p-A)理论模型分析结果定性符合 ，但实验产额减小值却大于 P一^模型 的预言．为解释实验结果 ，注意到碱 射靶点表面形貌对减小或增大溅射产额的明显作用，认为 实 际的产额减小很可能是 由于结合能和表面形貌等因素 的协同效应． PACC：7920N；8160B；7850 一 、 引 言 研究表 明，只要在金属中掺入少量 的杂质原子 ，这种材料的机械性能将会受到显著 的 影响．究其原 因，部分是 由于溶质原子向晶粒边界偏析之故，由此也可看 出微观水平上 的 杂质和基质原子结合本身可以主宰系统的机械性质．但是 ，对这种在微观级别上杂质原 于结合效应的探索，却因理论上的复杂性和缺乏在原子水平上对局域杂质一基质原子结合 特点的实验基础而受到限制．另外 ，在很多等离子体和放 电器件研究领域中，对低溅射产 额材料的探索也是一项长远 目标． 根据现有理论 ，在线性级联碰撞范围内，离子溅射产额 Y与靶原子的表面结合能 U。 成反比，即 y。：I／v．．在杂质影 响金属内聚力的研究中，Painter和 Averill给 出了一个 基质原子八面体 团 (cluster)内杂质原子与基质原子相互作用模型 “一，通过严格计算发 现 ．掺杂 B后基质 Ni原 子的结合能 E ，比起来掺杂 B的结合能要大得多．根据溅射原子 产额和原子表面结合能之间的关系，可 以预期Ni中掺人B杂质，其溅射产额必将低于相 应纯金属 Ni的溅射产额．掺人杂质 B的Ni—B系统 ，我们称之为 Ni-B稀释台金 (dilute alloy)，其溅射产额 ywt一 与纯 Ni金属 的溅射产额 ywi的比例 ，在线性级联碰撞范围内， 对未扰动的平整靶表面可 以写成 (见附录) 一、 yNl—B／YN一 [(u。)Ni／如 】， (I) 国家 自拣科学基金责助的谭厢 物 理 学 报 式中 (．) 为纯 Ni靶 的原子表面结合能． 为了研究B杂质对基质 Nj原子溅射产额的影响，我们选用了 Ni-B稀释 合金 和纯 Ni材料作样品，这是基于如下考虑： 由于溅射产额直接与 P-A模型预言的结合能相联 系 ，从确证的观点而言，用卢瑟福背散射谱仪测定是很 台适 的，因为这种方法可 以给 出精 确的溅射产额数值 ．尽管把实验结果与 P—A模型 的预 言作定量 比较是 困难 的，但从下面 的讨论中可以看到，在把 Ni-B和纯 Ni的溅射产额比值 y一一 ／y 通过(1)式与 P—A模 型预期 的结果 比较之后发现 ，除了表面结合能 风 的决定性作用之外 ，还可能存在靶点表 面形貌 以及晶界化学结构 的影 响． 二、 实 验 本工作的实验装置，已在文献 【3】中详细 地讨论，在 此仅简要 叙述 如下： 高纯 (99．99％)金属 Ni和掺 B冶炼得到的Ni-B(1wt％)合金用作样品． 样品用纯氩气保护， 于 500~(3高温炉中退火