材料表面等离子处理技术发展趋势和特点.pdfVIP

第四届全国表面工程学术交流大会论文集 材料表面等离子处理技术发展趋势和特点 凌国伟 王万泉 倪翰 (武汉材料保护研究所武汉430030) 摘要：本文就材料表面等离子处理技术近年来的技术发展趋势和特点加以论述。并对一些要 点进行了讨论． 关键词：物理气相沉积PvD离子氮化表面强化 一概论 本文拟就材料表面等离子处理技术近年来的技术发展趋势和特点加以论述和讨论．其 实这是一个很大的题目，本文不可能涉及所有方面，仅就低压下材料的等离子表面处理技术 的有关重要问题进行论述和讨论． PvD技术作为现代材料表面保护、强化以及制备新材料的重要手段．近年来又有较多 新的发展．特别是与迅速发展的其它科学技术相结合和互相促进．使得技术自身的发展和其 应用领域得到新的开拓． 离子氮化技术已经工业应用多年，成为一种“传统”技术．但近年来随着新的要求和 与其它技术结合，又开始向更高的一步发展． 二设备的发展 l增强等离子过程 P＼『D技术较传统的气相沉积技术的根本差别在于过程中引入等离子体的作用，使得从传 统的加热一蒸发—