步进扫描光刻机同步控制及硅片变形误差补偿技术研究.pdfVIP

中国机械工程第* 卷第% 期#, 年# 月上半月 步进扫描光刻机同步控制 及硅片变形误差补偿技术研究 # 胡旭晓! 台宪青 ! 杨克己 $ 浙江大学现代制造工程研究所，杭州，%#’ # $ 中国科学院自动化研究所，北京，( ! ! ! ! 摘要：在建立光刻机工作台、掩膜台的运动控制模型基础上，提出工作台 二级进给控制策略及工作台、掩膜台同步控制策略，并且通过自适应同步控 制和逐场对准方式下分段误差校正技术对硅片变形进行补偿。实验证实，当 硅片非线性变形占总变形的比例分别为) 、%) 、*) 时，通过以上方法能 够补偿的不同步误差分别为+($ , ) 、+- $ %) 和+, $ #) 。 胡旭晓! 副教授 关