第7章光刻胶.ppt

光刻胶的涂敷和显影设备 实验室的涂胶设备通常是单个涂胶台，显影用浸入式操作；工业上一般采用轨道多头涂胶、显影复合装置。由微机控制装片、时间、转速、卸片等各种工艺参数，涂胶和显影自动完成。显影时，显影液喷布整个圆片，不会有浓度改变问题。 7.6 二级曝光效应 二级曝光效应:实际上指由于胶对不同波长光的吸收，以及圆片上台阶高度对光刻线条的影响。 光刻胶对不同波长的光有不同的吸收系数，吸收系数太大，曝光时光被上层胶充分吸收，下层胶显得曝光不足； 吸收系数太小，曝光期间几乎没有光被吸收，需要很长的曝光时间。选择对所用光线有合适吸收系数的胶，对光刻质量很重要。 1、在选择光刻胶时，必须考虑它的吸收谱，以及在特定波长下的光学吸收系数α。 2、还要考虑基体材料对光的吸收。例如酚醛树脂就对深紫外光有很强的吸收。被基体材料吸收的光到达不了感光化合物，从而影响光刻胶的灵敏度。 可知，当α太大时，则只有光刻胶的顶部能被有效曝光；当α太小时，则由于吸收太少而需要长时间的曝光。 3、当硅片表面凹凸不平时 ，遇到的第一个问题是硅片表面倾斜的台阶侧面会将光反射到不希望曝光的区域。第二个问题是使胶膜的厚度发生变化：在硅片表面凹下处胶膜较厚，导致曝光不足；在硅片表面凸起处胶膜较薄，导致曝光过度。胶膜厚度的不同还会影响对比度。 解决这个问题的办法是表