电子束离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响.pdfVIP

　第 15 卷 　第 9 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 15 ,No. 9 　 　2003 年 9 月 HIGH POWER LASER AND PARTICL E BEAMS Sep. ,2003 　 文章编号 : (2003) 电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺 对光学薄膜性能的影响 王英剑 , 　李庆国 , 　范正修 ( 中国科学院 上海光学精密机械研究所, 上海 201800) 　　摘 　要 : 　运用电子束 、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜 ,包括单层氧化物薄膜和 增透膜 ,然后采取一系列测试手段 ,如 Zygo 轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和 X 射线衍射等技术 ,来分 析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响 , 以判断合理的沉积工艺。 　　关键词 : 　电子束; 　离子辅助 ; 　离子束溅射 ; 　薄膜特性 　　中图分类号 : 　O484. 4 　　　　文献标识码 : 　A ( ) ( 　　在光学薄膜的沉积技术中 ,有许多成熟的技术手段 ,其中电子束 Ebeam 、离子辅助 ion assisted deposi ) ( ) tion , IAD 和离子束溅射 ion beam sputtering ,IBS 是比较有代表的制备光学薄膜的技术手段。电子束蒸镀作 为热蒸发技术的一种 ,是目前应用最广泛、技术最成熟的镀膜技术 ,其原理是 :金属灯丝在高温状态下 ,它内部 的一部分电子获得足够的能量 ,逸出金属表面 ,发射出热电子。在电磁场的作用下 ,热电子高速运动 ,并形成细 束轰击被镀材料表面 ,热电子的动能转变成热能 ,使材料迅速升温而蒸发。电子束蒸镀具有速度快、污染小、薄 膜结合力强的特点 ,但薄膜堆积密度不够高 ,薄膜在真空和空气中性能有变化 ,如波长的漂移等 ,在制备一些特 殊薄膜时还有薄膜结合力不牢、薄膜脱落的现象。离子辅助技术 ,是在电子束蒸镀的同时 , 以高能离子撞击蒸 发的薄膜分子 ,使其得到较大的能量 ,从而以高能沉积在基底材料上。这一技术已日臻成熟 ,有不少相关的报 道 ,早期的有 Martin ,Macleod[1 ] ,Mcneil[2 ,3 ] 以及周九林[4 ] 、汤雪飞[5 ] 等 ,着重于薄膜性能的分析。现在离子辅 助在制备光通信薄膜及其它新型薄膜中已成为不可缺少的技术手段[6～8 ] 。离子束溅射也是制备薄膜的一种 主要技术手段。溅射这种现象在 19 世纪就已经被观察到 ,但是在 20 世纪 40 年代以后才真正发展起来 ,成为 [9 ] [7 ,10 ] 一种成熟的工艺 , 目前也已经用于高性能薄膜的生产与开发 ,其特点是依靠动量交换作用使固体材料 的原子、分子进入气相 ,溅射出的粒子平均能量为 10eV ,高于真空蒸发粒子 100 倍左右 ,溅射和热蒸发的根本 区别就在于 ,热蒸发是借助于焦耳热发生蒸发的 ,而溅射是通过靶原子的动量转换而获得蒸发的。本文就运用 这三种方法来制备光学薄膜 ,包括单层氧化物薄膜和增透膜 ,然后测量并分析这些薄膜的性能。 1 　实验技术 ( ) ( ) 　　实验是在两台镀膜机上进行