KP3-ME-EA-010-05.HULLMULLER内层DES线认可报告.docVIP

主题：认可报告 文件编号：KP3-ME-EA- 致： PROD / EM /PUR 由： / 龚定雄发出： 伦振宇 / 批核： 影送：/ 邓荣均先生 日期： /28/2005 目的 Hollmuller内层DES线经过几次大改装和维修改进后，已大批量生产5个月，现评估其现规格是否符合规格要求和各项性能是否满足我司内层酸性蚀刻的生产工艺及品质的要求。 设备简介 生产商： Hollmuller 供应商：好德 产地：德国 生产编号：1389 用途：内层酸性蚀刻（即适用于双氧水又适用于氯酸钠体系） 控制界面：Windows XP英文操作系统，由软件直接控制电气开关。 设备组成 总共有18段组成，共27.54m，位置、名称、标识和长度分别如下： 位置 名称 标识 长度（cm） Pos.1 放板运输段 Input/Drive 92 Pos.2 显影段 Development 176.5 Pos.3 后显影段 Post development 229 Pos.4 水洗段1 Cascade rinse 4 step 115 Pos.5 水洗段2 Cascade rinse 4 step 115 Pos.6 烘干段 Drying 81 Pos.7 检查段 Inspection 78.5 Pos.8 预蚀刻段 Pre. Etching 173.5 Pos.9 蚀刻段1 CuCl2 Etching 309.5 Pos.10 蚀刻段2 CuCl2 Etching 309.5 Pos.11 后蚀刻段 Post Etching 90 Pos.12 水洗段 Cascade rinse 4 step 116 Pos.13 检查段 Inspection / Drive 77 Pos.14 褪膜段 Stripping 401.5 Pos.15 后褪膜段 Post stripping 65.5 Pos.16 水洗段 Cascade rinse 5 step 170 Pos.17 烘干段 Drying 110 Pos.18 出板段 Output / Drive 44.5 设备重要规格 做板尺寸：12＂×12＂（min） 22＂×26＂（max） 做板厚度：0.05~2.0mm（不含铜厚）； 蚀刻标准速度：1OZ， 3.5m/min； 显影、褪膜：4.0m/min（30um，40um干膜）； 线宽线距（生产菲林）：2mil/2mil（min）； 蚀刻药液控制方式：AQUA 911自动控制器； 蚀刻均匀性：≤10%(偏差)； 蚀刻因子：≥3.0 中心偏移：10mm 规格评估 做板尺寸及厚度 要求：在设备规格内，所有板不卡板、不板折、不折角、不偏位、不叠板等 测试方法： 14＂×10＂，2mil，5panels过5遍； 12＂×12＂，2mm，5panels过5遍； 22＂×26＂，4mil，5panels过5遍； 22＂×26＂，2mm，5panels过5遍； 结果：所有测试板不卡板、不板折、不折角、不偏位、不叠板 注： 安装初期，因铜点问题严重，减少、更换和移动行辘，整条线出现大量的卡板，最后经过设备改装、改进后及行辘恢复，铜点得到有效的控制，近3个月因设备不明原因卡板几乎没有。 小结：符合公司生产规格要求； 蚀刻标准速度 规格要求：1OZ ，速度 3.5m/min 测试条件： 全蚀刻段喷压全开，压力1.6~2.0kg/cm2 线路线宽线距要求：3mil/3mil，菲林线宽线距：3.5mil/2.5mil 使用标准1OZ板材的光板贴膜后曝光、显影、蚀刻 测试结果：蚀刻速度实际为3.8m/min，即可蚀刻线宽线距要求范围内。 小结：符合规格要求。 显影、褪膜标准速度 规格要求：常用40um干膜在4.0m/min速度下，可保证得到所需的显影点（显影点控制在50%~70%之间），褪膜后板面无氧化、干膜残留。 测试条件： 生产板直接测试； 显影、褪膜的喷压全开。 结果：显影速度4.5m/min显影点在65%，褪膜速度 5.0m/min情况下板面无异常。 小结：符合规格要求 线宽线距能力测试 要求：生产菲林2mil/2mil，蚀刻后线宽（测量线底）在2±0.2mil以内。 测试条件： 铜厚1OZ 手动ORC曝光 专用测试菲林 蚀刻速度为正常蚀刻速度3.6m/min 测试结果： 截面图 平面图 小结：测量蚀刻后线宽1.94mil，符合规格要求。 蚀刻液添加方式 要求：自动测量药水的各种浓度，并且自动、准确的添加 测试条件： 自动连续生产时观察显示器显示浓度是否波动范围异常； 生