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* Chemical Supply System化学品供应系统简介 课 程 大 纲 系统之目的 化学品之种类与用途 系统之基本要求 化学品供应质量要求 系统之流程图 CDU之流程图 TEE-BOX之构造 VMB之构造 SAMPLING BOX之构造 系统设备之材料要求 运转操作注意事项 系统之目的 供应高纯度化学品以清洗芯片上之杂质、微粒子 供应高纯度化学品以蚀刻芯片图案 供应高纯度化学品以显影芯片图案 供应高纯度化学品以为化学气相沉积前置反应物 供应高纯度化学品以研磨芯片 供应高纯度化学品以清洗制程设备零配件 化学品之种类与用途(一) 酸性: 腐蚀性:H2SO4,HCl,HNO3,HF,H3OP4... 毒性:HF,HNO3,Poly-Mix,BOE... 碱性:NH4OH,KOH,Developer... 有机溶剂 易燃液体:IPA,Acetone,NBA,光阻液... 腐蚀性有机溶剂:EKC,EBR,HMDS... 氧化性:HNO3,H2O2... 化学品之种类与用途(二) 系统之基本要求 操作安全：腐蚀性、毒性、耐压、防爆之考虑 化学品零污染：与化学品接触部份完全与化学品 兼容 微粒子控制：过滤器循环过滤 满足最大需求流量：高浓度化学品如H2SO4、 H3PO4 自动控制操作运转：系统单元与机台界面自动化 取样分析：系统、管路之粒子数、金属离子含量 取样分析 泄漏警报：侦测泄漏及紧急关闭系统(EMO) 系统诊断：Pump、Filter 、Valve运转时数 维修保养管路 Auto Purge/Flush 功能 化学品用量统计 化学品供应质量要求 系统之流程图(一) CCB Storge Tank12m3 CDU VMB T T T VMB VMB VMB Tool-1 Tool-2 Tool-3 Tool-4 6m3 Tote1m3 200L Drum 化学槽车充填衔接站将化学品由槽车以N2加压直接输送至Tank 适合使用量较大之化学品,如H2O2,H2SO4等 适合使用量中等之化学品,如HF,H3PO4等 适合使用量较小之化学品,如BOE,HNO3等 将化学品经循环过滤,再经N2或Pump加压输送至有需求之生产机台内 将化学品经管路分配至不同生产机台 S 可依实际用量需求选择使用 Tee Box Sampling Box 系统之流程图(二) Provided By Systems Chemistry,INC FMCS OCP HUB CDU VMB Tool Tee Box 系统之流程图(三) TOOL机台 OCP SCADA Computer HUB CDU T-BOX 主管路 GN2 加强讯号 循环过滤 25”后 供酸 启动CDU 循环过滤后，同时由OCP供应GN2，打开VMB内气动阀，将化学品供应至TOOL CHEMICAL LINE GN2 LINE SIGNAL LINE 供酸 VMB 泄漏警报 系统之流程图(四) Tool Side OCP Side Trouble Ready Stop Request Electric Signal Interface Between BCDS Tool EMO 1.当机台需求化学品时,传送Request讯号给OCP．2.OCP收到讯号后,会先检查CDU是否Ready供应 若是，则回传Ready讯号．若否，则回传Trouble讯号3.机台端EMO被压下时，则停止供应化学品． +24V +24V +24V CCB之流程图 Provided By NOVA GN2inlet StorageTank 充填槽车 CDU CDU之流程图(型一) Provided By NOVA Outlet Pump TransferFilter SupplyFilter GN2inlet CDAinlet Drum Day Tank Tank CDU之流程图(型二) Provided By Systems Chemistry,INC Outlet Drum Tank Pump Trans/RecFilter SupplyFilter TEE-BOX之构造 主管路 主管路 VMB Drain Port 手动阀 箱体内侧下方装设泄漏侦测器 Provided By NOVA 1.箱体以PP制成2.CPVC外盖3.箱体与外盖间以 O-Ring密合4.管件以PFA制成 一般酸碱类适用 VMB之构造 箱体内侧下方装设泄漏侦测器 Drain Port inlet To Tools CDA inlet From OCP to