反应溅射+TiN+纳米晶薄膜的结构特征和耐蚀性-.pdfVIP

: ( ) · · 材料导报 研究篇 年 月 下 第 卷第 期 28 B 　 　2015 6 29 6 反应溅射TiN 纳米晶薄膜的结构特征和耐蚀性∗ 1 2 2 , , 曲 彬 张金林 贺春林 　 ( , ; , ) 1　沈阳工学院基础教育学院 抚顺 113122 2　沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室 沈阳 110044 , ( )、 摘要　　利用直流反应溅射技术在不锈钢和硅基体上沉积了TiN 纳米晶薄膜 采用场发射扫描电镜 FESEM ( ) ( ) 、 。 , X射线衍射 XRD 和电化学阻抗谱 EIS 技术研究了薄膜的表面形貌 相结构和耐蚀性与偏压的关系 结果表明 , 、 、 。 TiN 薄膜的表面结构明显取决于所施加的偏压 适当提高偏压有利于获得细小 均匀 致密和光滑的膜层 XRD 分 , , ( ) 。 , 析发现 薄膜为面心立方结构 其择优取向为 面 实验显示 对应 和 偏压的薄膜为欠化学计量 TiN 111 0 V -35 V , 。 , 比的 而偏压增加至 和 时的薄膜为化学计量比的 结果表明 较高偏压下的 薄膜几乎 -70 V -105 V TiN EIS TiN , , 在整个频率范围内均表现为容抗特征 其阻抗模值明显高于低偏压下的膜层 这主要与较高偏压下的薄膜具有相对 。 。 致密的微结构有关 较低偏压的TiN 薄膜因结构缺陷较多其耐蚀性低于基体不锈钢 EIS 所揭示的薄膜结构特征