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JGP-450A 双室磁控溅射 沉积系统 用户手册 1 前言： 首先 谢购买我们的设备，本着对您负责的精神，并为了确保给您提供最优质的 售后服务，特别为您准备了本手册，请您耐心读取相关信息。 您的义务 请您在使用过程中，将发生故障的操作步骤填写在page29 附表1.中，我们将参考 此表内容尽我们最大的能力在最短的时间内完成维修。 如何使用本手册 如果您是初次使用该设备，那么您需要通读用户手册。如果您是一位有经验的用户， 则可以通过目录查找相关信息。 本手册涉及的字体及符号说明： 字体的大小直接反应父、子关系，符号说明见下表： 符号 指示性说明 代表意义 没有先后顺序之分，是比q和■高一级 描述性说明 目录 q 详细描述性说明 没有先后顺序之分 ■ 详细描述性说明 有先后顺序之分 有利于深刻认识系统，并且可以避免不 6 提示性说明 必要的故障发生 必须严格遵守的内容，否则会发生严重 警告性说明 事故 目 录 绪言 1 1 JGP-450A 双室磁控溅射沉积系统2 概述2 工作原理以及技术指标2 设备基本机构以及组成4 设备的安装5 2 机械结构6 设备组成6 溅射室8 进样室9 上盖组件9 安装机台组件 10 Φ60 永磁折靶 10 基片水冷加热转盘（可选） 11 转盘加热炉组件 11 共溅射加热转盘（可选） 12 共溅射水冷转盘 （可选） 13 多基片样品挡板 13 样品库组件 14 磁力送样机构 14 3 真空获得 15 4 操作规程 16－21 5 电源及控制 22 －28 6 注意事项 29 －30 7 常见故障与排除31 8 紧急状况应对方法32 9 顾客反馈清单33 10 维护与维修34 绪言 JGP-450A双室磁控溅射沉积系统是一套可用于镀制纳米级单层及 多层功能膜———各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等的设备 ， 是实验室镀膜的理想设备。在镀膜工艺条件下，采用微机控制样品转盘、 样品挡板和靶挡板，既可以制备单层膜，又可以制备各种多层膜，为新 材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。