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中国核科学技术进展报告(第一卷)
核电子学与核探测技术分卷 Progress Report on China Nuclear Science Technology (Vol.1 ) 2009 年11 月
深亚微米CMOS 随机静态存储器反应堆
中子辐射效应实验研究
杨善潮,郭晓强,林东生,陈 伟,王桂珍,李瑞宾,白小燕
(西北核技术研究所,陕西西安 710024 )
摘要:使用西北核技术研究所自主研制的存储器辐射效应测试系统,选取了0.25 µm 工艺4M 容量和0.13 µm 工艺16M
容量的CMOS 随机静态存储器(SRAM),在西安脉冲堆进行了中子辐射效应实验,研究了CMOS SRAM 在反应堆中
子辐射环境下出现的效应现象。两类存储器存储单元的翻转随中子注量的增长均无明显阈值。通过对实验结果的分析,
认为两类深亚微米的 SRAM 在西安脉冲堆的中子辐射出现了单粒子翻转效应,出现这种现象的原因是随着器件特征
尺寸的减小,存储单元翻转所需要电荷量下降导致。通过对翻转率的比较,说明工艺尺寸越小、集成度越高的存储器
越容易发生翻转。
关键词:中子辐照;深亚微米;随机静态存储器;单粒子翻转
随着微电子学的不断发展,随机静态存储器(SRAM )的集成规模越来越大,工艺参数由微米
级向深亚微米发展,对于深亚微米SRAM 应用于反应堆中子辐射环境时出现的辐射效应成为人们日
益关心的一个问题,国外有文献报道[1]对特征工艺尺寸为0.22 µm,0.18 µm 和0.13 µm 的几种不同
集成度的CMOS SRAM 在6 MeV 以内的反应堆中子上进行辐射效应的研究,均出现了中子单粒子
效应,而国内有文献[2]研究了14 MeV 中子辐照下微米级CMOS SRAM 的辐射效应是中子单粒子效
应。我们在西安脉冲堆上对0.25 µm 工艺和0.13 µm 工艺的两种不同集成度的CMOS SRAM 进行了
辐射效应实验,通过实验发现在反应堆的中子辐射环境下就出现了中子单粒子效应。
1 辐射模拟源[3]
实验所用的模拟源为西安脉冲反应堆,根据实验研究的要求,我们选择了两种条件的快中子辐
射场。1 号快中子辐射场n/γ为 9 2 ,进行的中子辐射效应实验可以忽略γ射线对电子
6.1×10 n/cm ⋅rad
元器件的损伤;2 号快中子辐射场n/γ为 8 2 ,实验样品在该快中子场的辐照下,不能
3.3×10 n/cm ⋅rad
忽略γ射线对电子元器件的损伤。
图1 1 号快中子辐射场中子能谱的实验测量值与理论计算值的分布(φ(E)-E)
作者简介:杨善潮(1977—),男,新疆乌鲁木齐人,助理研究员,学士,主要从事抗辐射加固技术研究
102
图1 给出了1 号快中子辐射场中子通量密度的能谱分布,大于0.01 MeV 中子谱平均能量的理论
计算值和实验值分别为1.1 MeV,0.79 MeV 。图2 给出了2 号快中子辐射场的中子通量密度的能谱
分布,大于0.01 MeV 中子谱平均能量的理论值、实验测量值分别为1.4 MeV,1.0 MeV。
图2 2 号快中子辐射场中子能谱的实验测量值与理论计算值的分布(φ(E)-E)
2 实验样品及测试系统
实验的CMOS SRAM 样品有两种,1 号样品是日立公司的R1LP0408 ,容量为4 M ,采用0.25 µm
工艺生产;2 号样品是日立公司的HM62V16100 ,容量为16 M,采用0.13 µm 工艺生产。
使用西北核技术研究所存储器辐射效应在线测试系统对SRAM 的在中子辐射环境下出现的数据
翻转进行测试,图3 为存储器辐射效应在线测试系统测试框图。首先给SRAM 的所有逻辑地址中写
入特定的初始值(如55H 或AAH ,保证写入的逻辑“0 ”和“1”的数量相等),并保存初始值到比
较缓冲区;接着进行中子辐照,每当完成限定时间的辐照后,读取SRAM 中存储的数据,与比较缓
冲区存储的值进行比较,统计发生翻转的总位数并记录发生翻转的地址,将当前存储器数据更新到
比较缓冲区;记录中子注量率和辐照时间以计算入
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